[發明專利]氟化石墨烯在制備光電探測器件中的應用有效
| 申請號: | 201210409506.9 | 申請日: | 2012-10-24 |
| 公開(公告)號: | CN102881759A | 公開(公告)日: | 2013-01-16 |
| 發明(設計)人: | 王蘭喜;陳學康;郭磊;曹生珠;吳敢 | 申請(專利權)人: | 中國航天科技集團公司第五研究院第五一0研究所 |
| 主分類號: | H01L31/09 | 分類號: | H01L31/09;H01L31/028;H01L31/18 |
| 代理公司: | 甘肅省知識產權事務中心 62100 | 代理人: | 馬英 |
| 地址: | 730000*** | 國省代碼: | 甘肅;62 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 氟化 石墨 制備 光電 探測 器件 中的 應用 | ||
1.氟化石墨烯在制備光電探測器件中的應用。
2.如權利要求1所述的氟化石墨烯在制備柔性光電探測器件中的應用。
3.如權利要求1或2所述的應用,其特征在于:所述光電探測器件的制備方法為:
⑴?制備絕緣襯底上的石墨烯薄膜樣品;
⑵?對⑴中所述石墨烯薄膜進行氟化;
⑶?在⑵中所述氟化石墨烯薄膜表面制作叉指電極,形成基于氟化石墨烯的光電探測器件。
4.如權利要求1或2所述的應用,其特征在于:所述光電探測器件的制備方法為:
?將帶有基底的沉積態石墨烯薄膜進行氟化;
?將⑴中所述氟化石墨烯轉移至絕緣襯底上;
?在⑵中所述氟化石墨烯薄膜表面制作叉指電極,形成基于氟化石墨烯的光電探測器件。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于中國航天科技集團公司第五研究院第五一0研究所,未經中國航天科技集團公司第五研究院第五一0研究所許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201210409506.9/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





