[發明專利]干涉測量光學材料均勻性的方法

有效

• 申請號: 201210406066.1
• 申請日: 2012-10-22
• 公開（公告）號: CN102928200A
• 公開（公告）日: 2013-02-13
• 發明（設計）人: 欒竹;劉世杰;吳福林;成倩;白云波
• 申請（專利權）人: 中國科學院上海光學精密機械研究所
• 主分類號: G01M11/02
• 分類號: G01M11/02
• 代理公司: 上海新天專利代理有限公司 31213
• 代理人: 張澤純

1.一種干涉測量光學材料均勻性的方法，采用干涉儀測量光學材料均勻性，其特征在于該方法包括下列步驟：

①將待測的光學材料加工成樣品（3），該樣品的前后表面具有一定的夾角α，樣品的前后表面的面形應符合干涉測量要求，一般波面誤差不大于3.3微米，滿足如下條件，使前后表面的反射光分開：

(2n2-sin2θcosθ)α>δ]]>

其中δ為干涉儀的分辨角度，n為樣品平均折射率，θ為入射角。

②調整干涉儀的標準透射鏡（1）和標準反射鏡（2）平行，啟動干涉儀，測量干涉儀的標準反射鏡（2）的波面誤差C(x，y)；

③在所述的標準透射鏡（1）和標準反射鏡（2）之間放入所述的樣品（3），干涉儀出射光束對樣品（3）的入射角為θ，定義樣品表面法線轉動到入射光束時逆時針為正，再測量透過樣品的標準反射鏡（2）的波面誤差為T1(x,y)；

④重新放置所述的樣品（3），該樣品的位置與第③步中樣品（3）的位置關于干涉儀光軸對稱，即干涉儀出射光束對樣品（3）的入射角為-θ，再測量透過樣品的標準反射鏡2的波面誤差為T2(x,y)；

⑤移動所述的標準反射鏡（2），使所述的標準反射鏡（2）與所述的樣品（3）的前表面的反射光垂直，測量經樣品的前表面反射的標準反射鏡（2）的波面誤差為A(x,y)；

⑥調整所述的標準反射鏡（2），使所述的標準反射鏡（2）與透過樣品的后表面的反射光垂直，測量透過樣品經過樣品后表面反射的標準反射鏡（2）的波面誤差為B(x,y)；

⑦數據處理：

計算樣品前表面的面形分布Z_a(x,y)：

Za(x,y)=A(x,y)-C(x,y)4cosθ;]]>

計算Z_a(x+Δx,y)：將Z_a(x,y)水平移位Δx＝2t·tgθ′·cosθ；

計算樣品后表面的面形分布Z_b(x,y)：

Zb(x,y)=B(x,y)+C(x,y)-T1(x,y)-T2(x,y)-2[Za(x,y)-Za(x+Δx,y)](ncosθ′-cosθ)4cosθ]]>

計算θ方向均勻性分布Δn₊(x,y)：

Δn+(x,y)=T1(x,y)-C(x,y)-2[Za(x,y)+Zb(x,y)](ncosθ′-cosθ)2tcosθ′]]>

計算-θ方向均勻性分布Δn_-(x,y)：

Δn_-(x,y)＝Δn₊(x,y)-T1(x,y)+T2(x,y)

計算折射率均勻性Δn：

Δn=(Δn+)PV+(Δn-)PV2;]]>

其中n為樣品平均折射率，t為樣品厚度，θ為入射角，θ′為折射入樣品中的折射角，以上在測量時為已知量。

2.根據權利要求1所述的干涉測量光學材料均勻性的方法，其特征在于所述的干涉儀為數字干涉儀。