[發明專利]光學器件用內面抗反射黑色涂料

無效

• 申請號: 201210401271.9
• 申請日: 2012-10-19
• 公開（公告）號: CN103064134A
• 公開（公告）日: 2013-04-24
• 發明（設計）人: 中谷直治;富山崇;守田奈央
• 申請（專利權）人: 佳能化成株式會社
• 主分類號: G02B1/11
• 分類號: G02B1/11;C09D5/32;C09D7/12
• 代理公司: 北京魏啟學律師事務所 11398
• 代理人: 魏啟學

1.一種光學器件用內面抗反射黑色涂料，其包含炭黑作為光吸收劑，

其中所述涂料包含與炭黑組合的金屬氧化物、活性氫化合物、能夠與所述活性氫化合物進行加成反應的電子吸引性化合物和硅烷偶聯劑；

所述活性氫化合物為包含至少兩個官能團作為活性氫基團的化合物，所述至少兩個官能團可以相同或不同，選自由羥基、氨基和巰基組成的組；

相對于涂料固成分以0.1質量%以上且20.0質量%以下包含所述炭黑，

所述金屬氧化物為選自由二氧化鈦、氧化鐵、四氧化三鐵、羥基氧化鐵和氧化鋯組成的組中的至少一種，并且相對于所述涂料固成分以20質量%以上且70質量%以下包含；和

所述硅烷偶聯劑具有選自由氨基、巰基、羥基、異氰酸酯基、環氧基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基、苯乙烯基和乙烯基組成的組中的官能團，并且相對于全部涂料以0.5質量%以上且10.0質量%以下包含；和

其中所述涂料具有50nm以上且800nm以下的分散粒徑D90。

2.根據權利要求1所述的光學器件用內面抗反射黑色涂料，其中所述金屬氧化物具有5nm以上且100nm以下的平均一次粒徑。

3.根據權利要求1所述的光學器件用內面抗反射黑色涂料，其中所述炭黑具有14nm以上且80nm以下的平均一次粒徑。

4.根據權利要求1所述的光學器件用內面抗反射黑色涂料，其中所述炭黑的DBP吸收量為40ml/100g以上且170ml/100g以下。

5.根據權利要求1所述的光學器件用內面抗反射黑色涂料，其中所述炭黑具有150nm以上且800nm以下的分散粒徑D90，所述金屬氧化物具有50nm以上至400nm以下的分散粒徑D90。

6.根據權利要求1所述的光學器件用內面抗反射黑色涂料，其中所述電子吸引性化合物為包含至少兩個以上異氰酸酯基的化合物。

7.根據權利要求1所述的光學器件用內面抗反射黑色涂料，其中所述電子吸引性化合物為包含至少兩個以上環氧基的化合物。

8.根據權利要求1所述的光學器件用內面抗反射黑色涂料，其中所述電子吸引性化合物具有異氰脲酸酯骨架。

9.根據權利要求1所述的光學器件用內面抗反射黑色涂料，其中所述二氧化鈦的甲醇疏水化度為30%以上且80%以下。

10.根據權利要求1至9任一項所述的光學器件用內面抗反射黑色涂料，其中相對于全部涂料所述涂料固成分為5質量%以上且80質量%以下。