[發(fā)明專利]CIGS太陽能電池結(jié)構(gòu)及其制造方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210401135.X | 申請日: | 2012-10-19 |
| 公開(公告)號: | CN103378215A | 公開(公告)日: | 2013-10-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 楊弦升;李文欽;朱立寰 | 申請(專利權(quán))人: | 臺積太陽能股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18;H01L31/032 |
| 代理公司: | 北京德恒律治知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11409 | 代理人: | 章社杲;孫征 |
| 地址: | 中國臺*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | cigs 太陽能電池 結(jié)構(gòu) 及其 制造 方法 | ||
1.一種制造薄膜光伏器件的方法,包括以下步驟:
(a)在基板上形成背接觸層;
(b)在所述背接觸層上形成富Se層;
(c)通過沉積銅、鎵和銦在所述富Se層上形成前體層,得到第一中間結(jié)構(gòu);
(d)對所述第一中間結(jié)構(gòu)退火,從而沿著所述背接觸層和所述前體層之間的界面形成Cu/Se、Ga/Se或CIGS化合物,并得到第二中間結(jié)構(gòu);以及
(e)硒化所述第二中間結(jié)構(gòu),從而在所述背接觸層上將所述前體層轉(zhuǎn)化成CIGS吸收層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中,所述步驟(e)進一步包括在硒化步驟的同時硫化所述第二中間結(jié)構(gòu)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中,形成所述富Se層包括沉積Se膜、MoSe化合物膜、InSe化合物膜、CuSe化合物膜或GaSe化合物膜。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中,在300℃和600℃之間的溫度下進行所述退火。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中,所述CIGS吸收體層沿著其與所述背接觸層的界面具有30至60原子%的Se濃度。
6.一種制造薄膜光伏器件的方法,包括以下步驟:
(a)在基板上形成背接觸層;
(b)在所述背接觸層上形成富Se層;
(c)通過沉積銅、鎵和銦在所述富Se層上形成前體層,得到第一中間結(jié)構(gòu);
(d)硒化所述第一中間結(jié)構(gòu),從而沿著所述背接觸層和所述前體層之間的界面形成Cu/Se、Ga/Se或CIGS化合物,并得到第二中間結(jié)構(gòu);以及
(e)硒化所述第二中間結(jié)構(gòu),從而在所述背接觸層上將所述前體層轉(zhuǎn)化成CIGS吸收層。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法,其中,所述步驟(e)進一步包括在硒化步驟的同時硫化所述第二中間結(jié)構(gòu)。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法,其中,形成所述富Se層包括沉積Se膜、MoSe化合物膜、InSe化合物膜、CuSe化合物膜或GaSe化合物膜。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法,其中,所述CIGS吸收層沿著其與所述背接觸層的界面具有30至60原子%的Se濃度。
10.一種CIGS太陽能電池結(jié)構(gòu),包括:
基板;
背接觸層,設(shè)置在所述基板上;
CIGS吸收層,設(shè)置在所述背接觸層上,其中,所述CIGS吸收層沿著其與所述背接觸層的界面具有30至60原子%的Se濃度。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的
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