[發明專利]O形圈防護系統和方法

無效

• 申請號: 201210399607.2
• 申請日: 2012-10-19
• 公開（公告）號: CN103062543A
• 公開（公告）日: 2013-04-24
• 發明（設計）人: R.戈夫;R.J.小弗里斯塔德;P.鄭
• 申請（專利權）人: 霍尼韋爾國際公司
• 主分類號: F16L25/10
• 分類號: F16L25/10
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 李濤

技術領域

本發明總體上涉及制冷劑系統，并且更特別地，本發明涉及O形環防護（shield）系統和方法。

背景技術

普通的工業實踐是使用徑向型O形圈密封制冷劑系統部件接頭。該O形圈典型地被放置在被機加工成凸形接頭的密封管（gland）（O形圈溝槽）中。所述O形圈然后被插入到凹形接頭中，在所述凹形接頭中，O形圈在所述凹形接頭的內徑與所述溝槽的底部之間受到壓縮。在形成接合之后，兩個半件（凸形接頭和凹形接頭）通過螺栓被連接在一起。恒定的高壓可能會損傷所述O形圈。另外，制冷劑可能會污染多個O形圈，從而損害所述O形圈的結構。受到損害的O形圈可能會允許制冷劑泄漏進入到加壓系統中的所不希望的部分中，從而導致成本非常高的分析診斷和修理。

如能夠看到地，需要這樣一種系統，所述系統能夠保護處于高壓制冷劑系統中的O形圈不受損傷和污染。

發明內容

在本發明的一個方面中，O形圈防護系統包括第一管道；包括被定位在所述第二管道的外表面上面的一個或多個周向溝槽的第二管道；被設置在所述一個或多個周向溝槽中的一個或多個O形圈；和位于第一管道與第二管道的接頭處的防護環，所述防護環在預定壓力下能夠被壓縮，所述防護環被定位在所述一個或多個O形圈制冷劑流的上游。

在本發明的另一個方面中，O形圈防護系統包括具有帶螺紋的凹形突出部的第一管道；具有被構造用以接收所述凹形突出部中的帶螺紋的凸形突出部的第二管道，所述第二管道進一步包括一個或多個被定位在所述第二管道的外表面上面的溝槽；位于所述凸形突出部的端部上面的帶斜面的表面；被設置在所述一個或多個溝槽中的一個或多個O形圈，其中所述O形圈被設置成被加轉矩達到所述凹形突出部內的一定位置；和位于所述帶斜面的表面之上的防護環，所述防護環在預定壓力下能夠被壓縮，且所述防護環被定位在所述一個或多個O形圈制冷劑流的上游。

在本發明的又一個方面中，一種保護制冷劑系統中的O形圈的方法包括以下步驟：確定制冷劑系統中的壓力將會超過預定閾值；提供防護環，所述防護環將會在預定壓力下被壓縮而不會發生破裂；將選定的防護環定位在O形圈的上游。

結合附圖并通過閱讀下面的說明書和權利要求書將會更好地理解本發明的這些和其它方面、特征、和優點。

附圖說明

圖1是根據本發明的一個典型實施例的O形圈防護系統的剖視圖；和

圖2是根據本發明的一個典型實施例的方法中所包含的一系列步驟的示圖。

具體實施方式

下面詳細描述的是用于實施本發明的當前最佳預期的模式。所述描述并不是限制性的，只是旨在用于闡明本發明的一般性原理的作用，這是因為本發明的保護范圍最終是由所附權利要求書進行限定的。

下面描述的多個發明特征可各自獨立使用，也可以與其它特征結合在一起使用。然而，任何單一的發明特征可能不會解決上文中所討論的任何技術問題或者可能僅會解決上文中所述的其中一個技術問題。此外，上文中所討論的技術問題中的一個或者多個可能不會被下文中所描述的任何技術特征所解決。

本發明總體上提供一種用于墊圈的保護層。在一個方面中，墊圈，例如高壓航天航空制冷劑系統中的O形圈可能會受到保護而不受快速壓力變化的影響。有可能會受益于下面披露的這些方面的示例性的航天航空制冷劑系統可包括那些使用液體和油混合的制冷劑的系統。在高壓制冷劑系統中，O形圈可能是可滲透的，因此傾向于吸收制冷劑。O形圈被制冷劑污染可能會導致產生泄漏并且在一些實例中，在系統中壓力快速變化時可能會導致O形圈產生爆炸式減壓。

參見圖1，圖中示出了的O形圈防護系統10的一個典型實施例。該O形圈防護系統可包括通過緊固件60聯接在一起的管道20和管道30。該O形圈防護系統10還可包括一個或多個O形圈55和防護環50。在O形圈防護系統10中，制冷劑流流動通過管道內壁34和24從管道30流至管道20。因此，在一個示例性實施例中，O形圈防護環50被定位在O形圈55的上游。