[發明專利]鉆石鍍真空薄膜的制作方法

無效

• 申請號: 201210396896.0
• 申請日: 2012-10-18
• 公開（公告）號: CN103774094A
• 公開（公告）日: 2014-05-07
• 發明（設計）人: 劉紅彪;易寧;李華志
• 申請（專利權）人: 東莞勁勝精密組件股份有限公司;東莞華清光學科技有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/02;C23C14/58;B05D5/06
• 代理公司: 廣州粵高專利商標代理有限公司 44102
• 代理人: 羅曉林;李志強

1.一種鉆石鍍真空薄膜的制作方法，包括如下步驟：

1）底漆噴涂，所述底漆工藝中使用的底漆中添加有鋯英粉，噴涂的底漆厚度控制在10μm～14μm之間，底漆粘度控制在?7.3～7.6秒之間；

2）鉆石鍍膜，所鍍膜靶材中摻有鋯石，鍍膜工藝采用不導電鍍，鍍膜厚度控制在35nm以內；

3）中漆噴涂；

4）面漆噴涂，面漆中摻有啞漿，面漆厚度控制在12μm～16μm之間。

2.根據權利要求1所述的鉆石鍍真空薄膜的制作方法，其特征在于：步驟（1）中鋯英粉所占的重量百分比為0.1%～3%。

3.根據權利要求1所述的鉆石鍍真空薄膜的制作方法，其特征在于：步驟（4）中啞漿所占重量百分比為15%～20%。

4.根據權利要求1所述的鉆石鍍真空薄膜的制作方法，其特征在于：所述鍍膜靶材中鋯石所占重量百分比為5%～15%。

5.根據權利要求4所述的鉆石鍍真空薄膜的制作方法，其特征在于：所述鍍膜靶材主要成分為85%～95%的In-Sn合金及5%～15%的鋯石。

6.根據權利要求1至5中任意一項所述的鉆石鍍真空薄膜的制作方法，其特征在于：步驟（3）所述中漆噴涂的厚度為6μm～8μm。

7.根據權利要求6所述的鉆石鍍真空薄膜的制作方法，其特征在于：本工藝所選基材主要為ABS塑料、PC材料或PA材料。

8.根據權利要求7所述的鉆石鍍真空薄膜的制作方法，其特征在于：步驟（2）中所述鍍膜類型為蒸發鍍膜。