[發(fā)明專利]脫硫石膏漿液密度測量裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210395829.7
• 申請日: 2012-10-18
• 公開（公告）號: CN102928316A
• 公開（公告）日: 2013-02-13
• 發(fā)明（設計）人: 李嚴光
• 申請（專利權）人: 李嚴光
• 主分類號: G01N9/00
• 分類號: G01N9/00;B01D53/80;B01D53/48
• 代理公司: 蘇州廣正知識產(chǎn)權代理有限公司 32234
• 代理人: 劉述生

技術領域

本發(fā)明涉及脫硫石膏生產(chǎn)領域，特別是涉及一種脫硫石膏漿液密度測量裝置。

背景技術

脫硫石膏的生產(chǎn)過程中，對其進行密度測量是必不可少的步驟。

傳統(tǒng)的密度測量過程控制不夠靈活，測量出來的石膏漿液的密度精準度也不佳，且石膏漿液的測量過程容易受到外界環(huán)境的干擾。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明主要解決的技術問題是提供一種脫硫石膏漿液密度測量裝置，控制過程更加便捷，控制的精度和靈活性能夠得到保證，保證了石膏漿液測量的精確性，避免測量過程受到雜質(zhì)空氣的干擾，保證控制更加精準。

為解決上述技術問題，本發(fā)明采用的一個技術方案是：提供一種脫硫石膏漿液密度測量裝置，包括：依次連接的取樣單元、輸液管道和測量單元，所述取樣單元包括漿液吸收管，漿液吸收管上連接有流量控制閥，所述測量單元包括漿液儲罐，漿液儲罐上連接有靜壓式液位計，所述漿液吸收管通過輸液管道連接漿液儲罐。

在本發(fā)明一個較佳實施例中，所述流量控制閥設置在漿液吸收管的出口處。

在本發(fā)明一個較佳實施例中，所述流量控制閥為電磁控制閥。

在本發(fā)明一個較佳實施例中，所述靜壓式液位計延伸至漿液儲罐內(nèi)部液面下方三分之一處。

在本發(fā)明一個較佳實施例中，所述輸液管道與漿液吸收管和漿液儲罐之間密封連接。

本發(fā)明的有益效果是：本發(fā)明脫硫石膏漿液密度測量裝置控制過程更加便捷，控制的精度和靈活性能夠得到保證，保證了石膏漿液測量的精確性，避免測量過程受到雜質(zhì)空氣的干擾，保證控制更加精準。

附圖說明

圖1是本發(fā)明脫硫石膏漿液密度測量裝置一較佳實施例的結構示意圖；

附圖中各部件的標記如下：1、取樣單元，2、輸液管道，3、測量單元，4、漿液吸收管，5、流量控制閥，6、漿液儲罐，7、靜壓式液位計。

具體實施方式

下面結合附圖對本發(fā)明的較佳實施例進行詳細闡述，以使本發(fā)明的優(yōu)點和特征能更易于被本領域技術人員理解，從而對本發(fā)明的保護范圍做出更為清楚明確的界定。

請參閱圖1，本發(fā)明實施例包括：

一種脫硫石膏漿液密度測量裝置，包括：依次連接的取樣單元1、輸液管道2和測量單元3。

所述取樣單元1包括漿液吸收管4，漿液吸收管4上連接有流量控制閥5，所述測量單元3包括漿液儲罐6，漿液儲罐6上連接有靜壓式液位計7，所述漿液吸收管4通過輸液管道2連接漿液儲罐6。

本發(fā)明中，所述流量控制閥5設置在漿液吸收管4的出口處，對石膏漿液的出口流量進行控制，保證了石膏漿液平穩(wěn)連續(xù)的流向測量單元3，保證了測量的精確性。

所述流量控制閥5為電磁控制閥，其控制的精度和靈活性能夠得到保證，保證控制更加便捷。

本發(fā)明中，所述靜壓式液位計7延伸至漿液儲罐6內(nèi)部液面下方三分之一處，避免靜壓式液位計7被石膏漿液浸沒，保證對石膏漿液測量的準確性。

所述輸液管道2與漿液吸收管4和漿液儲罐6之間密封連接，避免受到雜質(zhì)空氣的干擾，保證控制更加精準。

本發(fā)明脫硫石膏漿液密度測量裝置的有益效果是：

控制過程更加便捷，控制的精度和靈活性能夠得到保證，保證了石膏漿液測量的精確性，避免測量過程受到雜質(zhì)空氣的干擾，保證控制更加精準。

以上所述僅為本發(fā)明的實施例，并非因此限制本發(fā)明的專利范圍，凡是利用本發(fā)明說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結構或等效流程變換，或直接或間接運用在其他相關的技術領域，均同理包括在本發(fā)明的專利保護范圍內(nèi)。