[發(fā)明專利]基于等高信息稀疏測量的三維成像裝置及方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210395483.0 | 申請日: | 2012-10-17 |
| 公開(公告)號: | CN102865833A | 公開(公告)日: | 2013-01-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 何偉基;馮維一;陳錢;顧國華;張聞文;錢惟賢;隋修寶;于雪蓮;路東明 | 申請(專利權(quán))人: | 南京理工大學(xué) |
| 主分類號: | G01B11/25 | 分類號: | G01B11/25 |
| 代理公司: | 南京理工大學(xué)專利中心 32203 | 代理人: | 唐代盛 |
| 地址: | 210094 *** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 信息 稀疏 測量 三維 成像 裝置 方法 | ||
1.一種基于等高信息稀疏測量的三維成像裝置,其特征在于包括鎖模激光器(1)、第一帶通濾色片(2)、激光擴(kuò)束鏡(3)、液晶空間光調(diào)制器(4)、成像物鏡(5)、第二帶通濾色片(7)、聚焦透鏡(8)、高速光電二極管(9)、數(shù)據(jù)采集模塊(10)和計(jì)算機(jī)(11),在發(fā)送端上,鎖模激光器(1)輸出端的中心軸線上依次放置第一帶通濾色片(2)、激光擴(kuò)束鏡(3)、液晶空間光調(diào)制器(4)和成像物鏡(5),所有的光學(xué)中心吻合;成像物鏡(5)與聚焦透鏡(8)的光軸相交,待測目標(biāo)(6)放置于聚焦透鏡(8)與成像物鏡(5)的光軸的交點(diǎn),在聚焦透鏡(8)的前端(指經(jīng)待測目標(biāo)(6)反射回的信號光輸入到聚焦透鏡(8)的一端)放置第二帶通濾色片(7),高速光電二極管(9)放置在聚焦透鏡(8)的后焦面上,聚焦透鏡(8)光學(xué)中心與第二帶通濾色片(7)以及高速光電二極管(9)的感光面的光學(xué)中心吻合,高速光電二極管(9)的信號輸出端通過同軸電纜與數(shù)據(jù)采集模塊(10)的模擬輸入端連接,該數(shù)據(jù)采集模塊(10)的輸出端與計(jì)算機(jī)(11)網(wǎng)絡(luò)端口連接,上傳數(shù)據(jù)采集結(jié)果;數(shù)據(jù)采集模塊(10)的第一同步輸出端口通過同軸電纜與鎖模激光器(1)的同步輸入端口連接;數(shù)據(jù)采集模塊(10)的第二同步輸入端口通過同軸電纜與液晶空間光調(diào)制器(4)的同步輸入端口連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于等高信息稀疏測量的三維成像裝置,其特征在于激光擴(kuò)束鏡(3)與鎖模激光器(1)輸出端的距離為激光擴(kuò)束鏡(3)輸入負(fù)透鏡的一倍焦距。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于等高信息稀疏測量的三維成像裝置,其特征在于激光擴(kuò)束鏡(3)和液晶空間光調(diào)制器(4)之間的距離調(diào)節(jié)至激光光束經(jīng)擴(kuò)束后在液晶空間光調(diào)制器(4)上形成的光斑大于液晶空間光調(diào)制器(4)調(diào)制面的1.2~1.3倍。
4.據(jù)權(quán)利要求1所述的基于等高信息稀疏測量的三維成像裝置,其特征在于成像物鏡(5)與液晶空間光調(diào)制器(4)的距離為成像物鏡(5)的焦距。
5.據(jù)權(quán)利要求1所述的基于等高信息稀疏測量的三維成像裝置,其特征在于聚焦透鏡(8)和成像物鏡(5)相對于待測目標(biāo)(6)并排放置,且兩者位置相鄰,高速光電二極管(9)的感光面與聚焦透鏡(8)的距離為聚焦透鏡(8)的焦距。
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