[發明專利]一種空間聚焦離子門組件及空間聚焦型離子遷移管

有效

• 申請號: 201210394772.9
• 申請日: 2012-10-17
• 公開（公告）號: CN103779168A
• 公開（公告）日: 2014-05-07
• 發明（設計）人: 王衛國;李海洋
• 申請（專利權）人: 中國科學院大連化學物理研究所
• 主分類號: H01J49/06
• 分類號: H01J49/06;H01J49/26
• 代理公司: 沈陽科苑專利商標代理有限公司 21002
• 代理人: 馬馳

1.一種空間聚焦離子門組件，其特征在于：離子門由高壓金屬絲組和低壓金屬絲組構成，高壓金屬絲組和低壓金屬絲組分別處于相互平行的兩個平面內，且高壓金屬絲組中的金屬絲與低壓金屬絲組中的金屬絲于平行于它們所處平面的一平面上的投影相互交叉分布；高壓金屬絲組中的金屬絲相互平行設置，低壓金屬絲組中的金屬絲相互平行設置。

2.如權利要求1所述的空間聚焦離子門組件，其特征在于：

所述高壓金屬絲組中的金屬絲與低壓金屬絲組中的金屬絲于平行于它們所處平面的一平面上的投影相互交叉分布是指，高壓金屬絲組中金屬絲的投影與低壓金屬絲組中金屬絲的投影依次交錯、且均勻地間隔設置；即每二個相鄰的高壓金屬絲組中金屬絲的投影間均通過低壓金屬絲組中金屬絲的投影相間隔、每二個相鄰的低壓金屬絲組中金屬絲的投影間均通過高壓金屬絲組中金屬絲的投影相間隔。

3.如權利要求1所述的空間聚焦離子門組件，其特征在于：高壓金屬絲組和低壓金屬絲組所處平面間的距離0.01mm到3mm，其中低壓金屬絲組更靠近離子進入端。

4.如權利要求3所述的金屬絲組，其特征在于：高壓金屬絲組中相鄰金屬絲間的距離為0.1mm到1cm；低壓金屬絲組中相鄰金屬絲間的距離為0.1mm到1cm。高壓金屬絲組中金屬絲的直徑為0.01mm到2mm；低壓金屬絲組中金屬絲的直徑為0.01mm到2mm。

5.一種權利要求1所述空間聚焦離子遷移管，包括電離源（3）、聚焦型離子門組件（1）和柵網（5）及法拉第盤（6），其特征在于：聚焦型離子門組件（1）為一個，其將離子遷移管的電離源（3）與柵網（5）及法拉第盤之間的空間分割成反應區（2）和遷移區（4）。

6.如權利要求5所述的離子遷移管，其特征在于：所用的離子門組件（1）由不共平面且相互間絕緣的兩組金屬絲組平行排列構成，在離子門的靠近離子入口的低壓金屬絲組上施加相當于其所處遷移管中位置的電勢的恒定電壓，離子門的遠離離子入口的低壓金屬絲組上施加周期性的高壓，其絕對值高于第一組金屬絲上的恒定電壓絕對值，該高壓在低壓金屬絲組與低壓金屬絲間形成阻斷離子的控制電場，實現離子門的功能，將離子周期性的注入到遷移區（4）中。高壓金屬絲組后形成一個聚焦電場，實現聚焦功能，將注入的離子進行壓縮。