[發(fā)明專利]屏幕及其制造方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210394714.6
• 申請日: 2012-10-17
• 公開（公告）號: CN103105721A
• 公開（公告）日: 2013-05-15
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 青木和雄;北林雅志
• 申請（專利權(quán)）人: 精工愛普生株式會社
• 主分類號: G03B21/60
• 分類號: G03B21/60;B32B3/30
• 代理公司: 北京市中咨律師事務(wù)所 11247
• 代理人: 陳海紅;段承恩

1.一種屏幕，其特征在于：

使投影光反射而在顯示區(qū)域進行顯示；

具備屏幕基體材料；

所述屏幕基體材料在屏幕坯料的一方的面形成凹面形狀或凸面形狀；

在對應(yīng)于所述顯示區(qū)域內(nèi)的所述凹面形狀或所述凸面形狀的所述屏幕基體材料的任一個面，具備由形成于轉(zhuǎn)印箔的金屬反射層轉(zhuǎn)印形成的金屬反射膜。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的屏幕，其特征在于：

在對應(yīng)于所述凹面形狀或所述凸面形狀的未轉(zhuǎn)印形成所述金屬反射膜的部位形成反射降低膜。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的屏幕，其特征在于：

在對應(yīng)于所述凹面形狀或所述凸面形狀的所述金屬反射膜上的一部分形成反射降低膜。

4.根據(jù)權(quán)利要求1～3中的任一項所述的屏幕，其特征在于：

在所述顯示區(qū)域內(nèi)的凸面形狀的大致中心，轉(zhuǎn)印形成所述金屬反射膜。

5.根據(jù)權(quán)利要求1～4中的任一項所述的屏幕，其特征在于：

所述屏幕基體材料包括光不透射基體材料。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的屏幕，其特征在于：

所述屏幕基體材料為光透射基體材料，在相對于所述顯示區(qū)域內(nèi)的所述凹面形狀或凸面形狀的中心的背面的位置，轉(zhuǎn)印形成所述金屬反射膜。

7.根據(jù)權(quán)利要求1～6中的任一項所述的屏幕，其特征在于：

對所述金屬反射膜進行保護的保護膜與所述金屬反射膜同時轉(zhuǎn)印形成。

8.根據(jù)權(quán)利要求1～7中的任一項所述的屏幕，其特征在于：

所述金屬反射膜為鋁薄膜。

9.根據(jù)權(quán)利要求1～8中的任一項所述的屏幕，其特征在于：

所述屏幕坯料包括硬質(zhì)氯乙烯樹脂。

10.根據(jù)權(quán)利要求2所述的屏幕，其特征在于：

所述反射降低膜包括黑色樹脂涂料的固態(tài)物。

11.一種屏幕的制造方法，其特征在于：

所述屏幕使投影光反射而在顯示區(qū)域進行顯示，

所述屏幕的制造方法包括以下工序：

反射膜轉(zhuǎn)印工序，其在屏幕坯料的任一個面，通過轉(zhuǎn)印箔至少轉(zhuǎn)印形成金屬反射膜；和

基體材料變形工序，其在所述屏幕坯料的任一個面，通過平面模具使凹面形狀或凸面形狀成型并形成屏幕基體材料。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的屏幕的制造方法，其特征在于：

同時進行所述反射膜轉(zhuǎn)印工序和所述基體材料變形工序。

13.根據(jù)權(quán)利要求11或12所述的屏幕的制造方法，其特征在于：

進一步具有在所述屏幕基體材料的任一個面形成反射降低膜的反射降低膜形成工序。

14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的屏幕的制造方法，其特征在于：

同時進行所述反射膜轉(zhuǎn)印工序、所述基體材料變形工序和所述反射降低膜形成工序。

15.根據(jù)權(quán)利要求11～14中任一項所述的屏幕的制造方法，其特征在于：

包括位置對齊工序，該位置對齊工序使所述平面模具與所述轉(zhuǎn)印箔的位置對齊，以使得形成于對應(yīng)于在所述基體材料變形工序中使用的所述平面模具的面上的至少2個以上的隅角的位置的位置標(biāo)記與形成于對應(yīng)于成為對所述金屬反射膜進行轉(zhuǎn)印的基體的所述轉(zhuǎn)印箔上的至少2個以上的隅角的位置的位置標(biāo)記相重疊。

16.根據(jù)權(quán)利要求11～15中任一項所述的屏幕的制造方法，其特征在于：

所述基體材料變形工序及所述反射膜轉(zhuǎn)印工序包括加熱壓接工序。

17.根據(jù)權(quán)利要求13所述的屏幕的制造方法，其特征在于：包括反射降低劑的噴霧工序。