[發(fā)明專利]等離子體反應器

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210392266.6
• 申請日: 2008-07-14
• 公開（公告）號: CN103021779A
• 公開（公告）日: 2013-04-03
• 發(fā)明（設計）人: G.P.奈特;A.錢伯斯
• 申請（專利權）人: 愛德華茲有限公司
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32;H05H1/24
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 艾尼瓦爾;李進

1.?一種等離子體消除反應器，包括：

反應室；

入口頭，其具有連接到反應室的開口端，位于與開口端相對的等離子體入口，從開口端向等離子體入口逐漸變小的內(nèi)表面，和各自位于等離子體入口和開口端之間的第一和第二氣體入口；和

用于通過等離子體入口將等離子體物流注入反應室的等離子炬；

其中，等離子體入口被成形為使得等離子體物流朝著氣體入口向外散布。

2.?根據(jù)權利要求1的等離子體反應器，其中第一氣體入口位于與第二氣體入口在直徑上相對。

3.?根據(jù)權利要求1或2的等離子體反應器，其中入口頭的內(nèi)表面基本上是截頭圓錐形的。

4.?根據(jù)前述權利要求中任一項的等離子體反應器，其中氣體入口以基本上平行方向延伸通過入口頭。

5.?根據(jù)前述權利要求中任一項的等離子體反應器，其中每一氣體入口包括用于接收待在反應室中處理的氣體物流的噴嘴，和用于接收吹掃氣體的在噴嘴周圍延伸的環(huán)形通道。

6.?根據(jù)前述權利要求中任一項的等離子體反應器，其中等離子體入口具有內(nèi)壁，其具有與等離子炬相鄰的收斂段，和與入口頭的內(nèi)表面相鄰的擴散段。

7.?根據(jù)前述權利要求中任一項的等離子體反應器，包括位于與等離子體入口相對的用于朝著第一和第二氣體入口引導等離子體物流的裝置。

8.?根據(jù)權利要求7的等離子體反應器，其中引導裝置包括主體，其用于將等離子體物流引導到位于主體和入口頭的內(nèi)表面之間的圓錐形通道中。

9.?根據(jù)權利要求8的等離子體反應器，其中主體由陶瓷材料形成。

10.?根據(jù)權利要求8或9的等離子體反應器，包括用于在主體外表面上產(chǎn)生氣體層的裝置。

11.?根據(jù)權利要求10的等離子體反應器，其中氣體層包括用于與通過氣體入口之一進入反應器的氣體物流的組分反應的反應物。

12.?根據(jù)權利要求8-11中任一項的等離子體反應器，包括用于冷卻主體外表面的裝置。

13.?根據(jù)權利要求12的等離子體反應器，其中主體冷卻裝置被配置成為主體提供水。

14.?根據(jù)前述權利要求中任一項的等離子體反應器，其中反應室包括環(huán)形主體和向環(huán)形主體的內(nèi)表面提供氣體的裝置以便抑制沉積物在其上的堆積。