[發明專利]對稱等離子體處理室

有效

• 申請號: 201210391087.0
• 申請日: 2012-10-08
• 公開（公告）號: CN103035469B
• 公開（公告）日: 2017-10-27
• 發明（設計）人: 詹姆斯·D·卡達希;哈密迪·塔瓦索里;阿吉特·巴拉克利斯納;陳智剛;安德魯·源;道格拉斯·A·小布什伯格;卡爾蒂克·賈亞拉曼;沙希德·勞夫;肯尼思·S·柯林斯
• 申請（專利權）人: 應用材料公司
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32;H01J37/02
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司31100
• 代理人: 侯穎媖

1.一種等離子體處理設備，包括：

蓋組件和室體，其圍成處理區域，所述處理區域位于上襯里的底壁和網襯上方，所述網襯耦合到所述上襯里的所述底壁；

襯底支撐組件，其設置在所述室體中；

排氣組件，其在所述室體內限定抽真空區域，其中，所述室體包括圍繞所述襯底支撐組件的中心軸線對稱設置并將所述處理區域與所述抽真空區域流體連接的多個通道，其中所述襯底支撐組件包括下電極和設置在中心區域中的支撐基座，所述中心區域與所述處理區域和抽真空區域流體地密封，其中所述中心軸線是豎直軸線；以及

多個進出管，所述多個進出管貫穿所述室體的側面而定位以對所述中心區域提供纜線行進，所述多個進出管從設置在所述支撐基座下方的所述室體水平地延伸，并且所述多個進出管布置成以輪輻圖案圍繞所述襯底支撐組件的中心軸線對稱地間隔開，其中多個抽真空通道中的每一個抽真空通道在多個抽真空通路中的對應的一個抽真空通路下方延伸，所述多個抽真空通路定位在所述上襯里的底壁中，其中所述多個抽真空通道中的每一個抽真空通道在所述多個進出管中的兩個進出管之間延伸，并且其中每一個進出管在豎直方向上與所述處理區域間隔開。

2.根據權利要求1所述的設備，其中，所述室體具有圍繞所述支撐基座的中心軸線對稱地貫穿形成的排氣端口。

3.根據權利要求1所述的設備，其中，所述蓋組件包括：

上電極，其具有構造成將處理氣體分配到所述處理區域中的中心歧管和構造成將處理氣體分配到所述處理區域中的一個或者多個外部歧管；以及

環形歧管，其經由多個氣體管耦合到所述一個或者多個外部歧管，所述氣體管圍繞所述襯底支撐組件的中心軸線對稱地布置。

4.根據權利要求1所述的設備，其中，所述蓋組件包括：

各具有導電配件的流體入口和流體出口；以及

多個導電塞，其中，所述導電配件和導電塞圍繞所述襯底支撐組件的中心軸線對稱布置。

5.根據權利要求1所述的設備，還包括：

真空管，其設置成貫穿所述進出管中的一者，并流體地耦合到設置在所述下電極內的一個或者多個升降銷孔。

6.根據權利要求1所述的設備，還包括：

第一致動裝置，其設置在所述中心區域內，并構造成將所述襯底支撐組件豎直移動一距離。

7.根據權利要求6所述的設備，其中，所述距離與所述進出管中的至少一者的開口的豎直長度相等。

8.根據權利要求1所述的設備，還包括：

第二致動裝置，其設置在所述中心區域內，并構造成豎直移動設置在所述襯底支撐組件內的多個襯底支撐銷。

9.根據權利要求1所述的設備，其中所述上襯里包圍所述處理區域，并且其中，所述上襯里具有圓柱形壁，所述圓柱形壁具有多個槽，所述多個槽貫穿設置并圍繞所述襯底支撐組件的中心軸線對稱地布置。

10.根據權利要求9所述的設備，還包括耦合到所述圓柱形壁并覆蓋所述多個槽中的至少一者的背襯。

11.根據權利要求9所述的設備，還包括網襯，其圍繞所述襯底支撐組件環形地設置，并電耦合到所述上襯里。