[發明專利]一種單片式電容觸摸屏及其制備方法有效
| 申請號: | 201210390503.5 | 申請日: | 2012-10-15 |
| 公開(公告)號: | CN102880369A | 公開(公告)日: | 2013-01-16 |
| 發明(設計)人: | 譚化兵;王振中;熊維龍;林榮水;卞維軍;黃海東 | 申請(專利權)人: | 無錫格菲電子薄膜科技有限公司;無錫力合光電傳感技術有限公司 |
| 主分類號: | G06F3/044 | 分類號: | G06F3/044 |
| 代理公司: | 北京品源專利代理有限公司 11332 | 代理人: | 鞏克棟 |
| 地址: | 214177 江蘇省無錫市*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 單片 電容 觸摸屏 及其 制備 方法 | ||
1.一種單片式電容觸摸屏,其特征在于,所述單片式電容觸摸屏包括:單片基板(1)、非視窗油墨區(2)、視窗觸控區(3)和引線區(4);
其中,所述單片基板(1)上四周設置非視窗油墨區(2),所述非視窗油墨區(2)環繞形成視窗觸控區(3),在所述非視窗油墨區(2)上設置引線區(4);
其中,所述視窗觸控區(3)的電極材料為石墨烯透明導電薄膜。
2.如權利要求1所述的電容觸摸屏,其特征在于,所述引線區(4)的電極材料為石墨烯電極或銀漿電極,優選為石墨烯電極;
優選地,所述石墨烯透明導電薄膜的原子層數為1-10層,可見光的光學透過率≥85%;
優選地,所述單片基板(1)為透明基板,優選為玻璃板。
3.一種如權利要求1或2所述的單片式電容觸摸屏的制備方法,其特征在于,所述方法包括如下步驟:
(1)在單片基板上的四周邊緣形成非視窗油墨區(2),非視窗油墨區(2)圍成視窗觸控區(3);
(2)轉移石墨烯至單片基板(1)上,覆蓋整個視窗觸控區(3)和非視窗油墨區(2);
(3)對視窗觸控區(3)和非視窗油墨區(2)的石墨烯進行圖案化;
(4)貼控制器芯片。
4.一種如權利要求1或2所述的單片式電容觸摸屏的制備方法,其特征在于,所述方法包括如下步驟:
(1)在單片基板上的四周邊緣形成非視窗油墨區(2),非視窗油墨區(2)圍成視窗觸控區(3);
(2)轉移石墨烯至單片基板(1)上,覆蓋整個視窗觸控區(3);
(3)對視窗觸控區(3)的石墨烯進行圖案化;
(3’)在非視窗油墨區(2)上制作引線電極并圖案化,形成引線區(4);
(4)貼控制器芯片;
優選地,所述引線電極(4)為石墨烯電極。
5.如權利要求4所述的單片式電容觸摸屏的制備方法,其特征在于,所述方法的步驟(3’)在步驟(1)與(2)之間;
優選地,所述引線電極(4)為銀漿電極。
6.如權利要求3-5之一所述的方法,其特征在于,步驟(1)所述非視窗油墨區(2)的油墨厚度10μm;
優選地,步驟(1)所述非視窗油墨區(2)的形成采用絲網印刷工藝完成;
進一步優選地,步驟(1)所述非視窗油墨區(2)通過網紗進行絲網印刷,然后烘烤至印刷油墨厚度10μm;所述網紗優選350-450目,進一步優選420目。
7.如權利要求3-6之一所述的方法,其特征在于,步驟(2)所述石墨烯為石墨烯透明導電薄膜;
優選地,步驟(2)所述石墨烯透明導電薄膜為原子層數為1-10層的石墨烯,所述石墨烯透明導電薄膜的可見光的光學透過率≥85%;
優選地,步驟(2)所述石墨烯的制備方法選自化學氣相沉積法、化學分散法或加熱SiC法中的任意1種,優選化學氣相沉積法;
優選地,步驟(2)所述石墨烯的轉移方法選自聚甲基丙烯酸甲酯轉移法、熱釋放膠帶轉移法或聚二甲基硅氧烷轉移法中的任意1種,優選聚甲基丙烯酸甲酯轉移法。
8.如權利要求7所述的方法,其特征在于,步驟(2)所述石墨烯的制備方法為化學氣相沉積法,所述方法的步驟為在800-1200℃下裂解碳源性氣體,在襯底表面生長石墨烯薄膜;
優選地,所述碳源性氣體為只含有碳原子和氫原子的有機氣體,優選C1-4的烷烴、C2-4的烯烴、C2-3的炔烴中的任意1種或至少2種的組合,進一步優選甲烷、乙烷、乙烯、乙炔、丙烷、正丁烯、異丁烯、1,2-丁二烯、1,3-丁二烯、順丁二烯、反二丁烯、正丁烷、異丁烷、丙烯或環丙烷中的任意1種或至少2種的組合,特別優選甲烷和/或乙炔;
優選地,所述襯底選自金屬箔或附于基體上的金屬薄膜,所述金屬選自鎳、銅、銣、鈷、鈀、鉑、銥或釕中的任意1種或至少2種的組合;所述襯底優選銅箔、鎳箔、銣箔、釕箔或涂覆有金屬鎳薄膜的基體中的任意1種或至少2種的組合,進一步優選銅箔。
9.如權利要求3-8之一所述的方法,其特征在于,步驟(3)所述對視窗觸控區(3)的石墨烯進行圖案化的方法選自光刻或刻蝕,優選激光刻蝕或反應離子刻蝕;
優選地,所述激光刻蝕采用激光直寫式刻蝕;
優選地,所述反應離子刻蝕為將金屬掩膜緊貼于轉移了石墨烯薄膜的單片基板上,然后將其置于氧氣環境中進行刻蝕,被金屬掩膜遮蓋的區域,石墨烯得到保留,其余區域石墨烯將被氧等離子體刻蝕,從而獲得觸控區電極圖案。
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