[發明專利]屏蔽以及有機發光材料層的制作方法

有效

• 申請號: 201210387310.4
• 申請日: 2012-10-12
• 公開（公告）號: CN102956845A
• 公開（公告）日: 2013-03-06
• 發明（設計）人: 張錫明
• 申請（專利權）人: 華映視訊（吳江）有限公司;中華映管股份有限公司
• 主分類號: H01L51/56
• 分類號: H01L51/56
• 代理公司: 上海漢聲知識產權代理有限公司 31236
• 代理人: 胡晶

技術領域

本發明是有關于一種屏蔽以及一種發光材料層的制作方法，且特別是有關于一種具有多個開口列的屏蔽以及一種使用該屏蔽的有機發光材料層的制作方法。

背景技術

在現行圖案化制程中，常藉由屏蔽搭配鍍膜制程來形成圖案化膜層。以用來形成有機發光材料層的屏蔽為例，屏蔽包括屏蔽主體以及配置于屏蔽主體中的多個長條狀開口，該些長條狀開口在行方向上排列且各長條狀開口幾乎延伸至屏蔽主體的邊緣。當搭配蒸鍍制程時，可經由屏蔽的每個長條狀開口蒸鍍出一個長條狀單色圖案，因此制作出包括交替排列的多色圖案的有機發光層。

然而，當屏蔽具有如上述的多個開口時，位于中央處的屏蔽主體容易因外部拉力及其整體重量而下垂，使得中央處的屏蔽主體相較于周邊處的屏蔽主體與待鍍物的距離不同。如此一來，導致蒸鍍出來的長條狀單色圖案會有中央寬于兩側的失真形狀，影響圖案的均勻性與精確度。

為解決上述問題，有人提出以多個長度較短但彼此緊鄰的開口來替代單一個長條形開口，使得開口之間具有提供支撐性的屏蔽主體，進而避免屏蔽發生上述下垂或變形等情況。然而，由于這些開口之間具有屏蔽主體，因此經由這些開口蒸鍍出來的多個圖案之間會具有間隙，導致圖案無法緊密接續配置。如此一來，將此屏蔽用于制作有機發光層時，多個單色圖案之間會有顯著的間隙存在，可能影響有機發光裝置的光學質量。

發明內容

本發明提供一種屏蔽，其具有穩固的結構且能用以形成多個緊密接續配置的圖案。

本發明提供一種有機發光材料層的制作方法，其中有機發光材料層包括藉由上述屏蔽制作的緊密接續配置的單色圖案。

本發明提出一種屏蔽，包括多個第一開口列以及多個第二開口列。各第一開口列包括排成一列的多個第一開口。位于不同第一開口列中的第一開口在行方向上對齊，其中各第一開口具有第一長度，位于同一列的兩相鄰第一開口之間具有第一間距。各第二開口列包括排成一列的多個第二開口。位于不同第二開口列中的第二開口在行方向上對齊，其中各第二開口具有第二長度，位于同一列的兩相鄰第二開口之間具有第二間距。第一開口列與第二開口列交替設置且任一第二開口列位于兩相鄰第一開口列之間，第一開口與第二開口在列方向上交錯。

在本發明的一實施例中，上述的第一間距等于或大于第二長度，第二間距等于或大于第一長度。

在本發明的一實施例中，上述的第一開口具有第一寬度。第二開口列相對于第一開口列于列方向上偏移第一距離。第一距離大于或等于第一長度，且第一距離小于或等于第一長度加上第一間距與第二長度之差。第二開口列相對于第一開口列于行方向上偏移第二距離。第二距離大于或等于三倍的第一寬度。

本發明提出一種屏蔽，包括多個第一開口列以及多個第二開口列。各第一開口列包括排成一列的多個第一開口。位于不同第一開口列中的第一開口在行方向上對齊，其中各第一開口具有第一長度，位于同一列的兩相鄰第一開口之間具有第一間距。各第二開口列包括排成一列的多個第二開口。位于不同第二開口列中的第二開口在行方向上對齊，其中各第二開口具有第二長度，位于同一列的兩相鄰第二開口之間具有第二間距。第一開口列與第二開口列交替設置且任一第二開口列位于兩相鄰第一開口列之間，第一開口與第二開口在列方向上至少部分重迭。

在本發明的一實施例中，上述的第一開口具有第一寬度。第二開口列相對于第一開口列于列方向上偏移第一距離。第一距離小于第一長度。第二開口列相對于第一開口列于行方向上偏移第二距離，第二距離大于或等于三倍的第一寬度。

本發明還提出一種有機發光材料層的制作方法。此制作方法包括于基板上形成第一顏色圖案，此步驟如下所述。首先，提供基板，基板包括多個第一區域，各第一區域包括在列方向上交替配置的多個第一次區域與多個第二次區域。第一次區域與第二次區域之間具有間隙或緊密連接。接著，于基板上提供前述的屏蔽。第一開口與第二開口暴露出第一次區域。第二次區域被屏蔽遮蔽。然后，經由第一開口與第二開口，于基板的各第一次區域上形成第一次圖案。而后，于各第二次區域上形成第二次圖案，其中第一次圖案與第二次圖案之間具有間隙或緊密連接。第一顏色圖案包括第一次圖案與第二次圖案。

在本發明的一實施例中，上述的于各第二次區域上形成第二次圖案的步驟如下所述。首先，移動屏蔽，使屏蔽的第一開口與第二開口暴露出第二次區域，且位于第一次區域的第一次圖案被屏蔽遮蔽。接著，經由第一開口與第二開口，于基板的各第二次區域上形成第二次圖案。