[發明專利]CdTe@SiO2量子點表面單胺類神經遞質分子印跡聚合物的制備方法無效
| 申請號: | 201210382810.9 | 申請日: | 2012-10-10 |
| 公開(公告)號: | CN103012800A | 公開(公告)日: | 2013-04-03 |
| 發明(設計)人: | 胡琴;魏芳弟;吳燕子;李瑞;劉利萍;周萍;蔡政;楊靜 | 申請(專利權)人: | 南京醫科大學 |
| 主分類號: | C08G77/26 | 分類號: | C08G77/26;C08G77/06;C08G77/02;C08J9/26 |
| 代理公司: | 南京經緯專利商標代理有限公司 32200 | 代理人: | 曹翠珍 |
| 地址: | 210029 *** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | cdte sio sub 量子 表面 單胺類 神經 分子 印跡 聚合物 制備 方法 | ||
1.??CdTe/SiO2量子點表面單胺類神經遞質分子印跡聚合物的制備方法,步驟如下:
(1)CdTeSiO2量子點的制備:
稱取碲粉、NaBH4于反應容器中,在氮氣氛圍下,注入新煮沸放冷的蒸餾水,攪拌,反應,得到淡粉色NaHTe溶液,備用;
在另一反應容器中加入蒸餾水,然后依次加入?Cd2+母液、巰基丙酸,調節pH?9.0-10.0,加熱至90~100℃時,將NaHTe溶液導入,反應液總體積控制在75~300?mL,攪拌混合均勻,緩慢注入正硅酸四乙酯,在氮氣的保護下于90~100℃回流反應4~8?h,將所得反應液旋轉蒸發至水揮發完畢,用無水乙醇洗去未反應的物質,得到CdTeSiO2量子點,粒徑10~20?nm;?
(2)CdTeSiO2MIPs的制備:
將步驟(1)制備得到的CdTeSiO2量子點加入到25~60?mL致孔劑中,超聲分散均勻,通氮除氧;
加入模板分子,攪拌,待模板分子全部溶解后依次加入功能單體和交聯劑,使用氨水催化,在氮氣保護下,攪拌反應16~24?h;將反應液離心,棄去上清;所得固體先用致孔劑洗滌,然后用二次水洗滌至無模板分子殘留,得到CdTeSiO2MIPs。
2.根據權利要求1所述的CdTe/SiO2量子點表面單胺類神經遞質分子印跡聚合物的制備方法,其特征在于,步驟(1)所述Cd2+母液的濃度為0.25?mol·L-1?,反應體系中Cd2+濃度為5×10-3?mol·L-1;Cd2+、NaHTe、巰基丙酸、正硅酸四乙酯的摩爾比是1:?0.3~0.8:?4.8:?10。
3.??根據權利要求1所述的CdTe/SiO2量子點表面單胺類神經遞質分子印跡聚合物的制備方法,其特征在于,步驟(2)致孔劑為無水乙醇與水1~4:?1體積比的混合物;所述模板分子的濃度為0.02~0.08?mol·L-1;模板分子、功能單體、交聯劑的摩爾比為1:?2~6:?4~10;所述模板分子為單胺類神經遞質L-去甲腎上腺素、L-腎上腺素、5-羥色胺、多巴胺中的任一種。
4.?根據權利要求1所述的CdTe/SiO2量子點表面單胺類神經遞質分子印跡聚合物的制備方法,其特征在于,步驟(2)功能單體為氨丙基三乙氧基硅烷,交聯劑為正硅酸四乙酯。
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