[發(fā)明專利]覆蓋耐磨隔熱膜層的氣門成形模具的制備方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210381313.7
• 申請日: 2012-10-10
• 公開（公告）號(hào): CN102912346B
• 公開（公告）日: 2013-02-06
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 周小平;胡心彬
• 申請（專利權(quán)）人: 湖北工業(yè)大學(xué)
• 主分類號(hào): C23C28/00
• 分類號(hào): C23C28/00;C23C26/00;C23C14/35;C23F4/00
• 代理公司: 武漢帥丞知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 42220
• 代理人: 朱必武

1.覆蓋耐磨隔熱膜層的氣門成形模具的制備方法，其特征在于：

①、對(duì)覆蓋耐磨隔熱膜層的氣門成形模具的型腔表面機(jī)械拋光；

②、用電火花沉積制備過渡層；

③、過渡層表面機(jī)械拋光；

④、過渡層表面等離子體刻蝕微孔陣列；

⑤、過渡層表面磁控濺射制備耐磨隔熱層。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的覆蓋耐磨隔熱膜層的氣門成形模具的制備方法，其特征在于：覆蓋耐磨隔熱膜層的氣門成形模具的型腔表面機(jī)械拋光后表面粗糙度Ra≤0.05μm。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的覆蓋耐磨隔熱膜層的氣門成形模具的制備方法，其特征在于：過渡層表面機(jī)械拋光后表面粗糙度達(dá)到Ra≤0.05μm。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的覆蓋耐磨隔熱膜層的氣門成形模具的制備方法，其特征在于：過渡層表面等離子體刻蝕的微孔陣列為孔徑5μm、孔深5μm、孔間距20μm。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的覆蓋耐磨隔熱膜層的氣門成形模具的制備方法，其特征在于：過渡層表面磁控濺射制備耐磨隔熱層的磁控濺射參數(shù)為工作氣壓0.1~0.6Pa，加載負(fù)偏壓－100～－400V，濺射電壓500?~700?V，靶材濺射電流密度0.1~0.15?A/cm²，濺射時(shí)間為0.5~30小時(shí)。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的覆蓋耐磨隔熱膜層的氣門成形模具的制備方法，其特征在于：用電火花沉積制備過渡層的工藝參數(shù)如為輸出電壓50~150V，電容100~300μF，頻率2000~3000Hz，比沉積時(shí)間1~3min/cm²，電極轉(zhuǎn)速2000~3000r/min。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的覆蓋耐磨隔熱膜層的氣門成形模具的制備方法，其特征在于：過渡層表面等離子體刻蝕微孔陣列的工藝方法是：采用激光加工技術(shù)在厚度為0.05mm有機(jī)硅膠薄膜上加工通孔孔徑為5μm、孔間距為20μm的微孔陣列；將帶有微孔陣列的有機(jī)硅膠薄膜貼于模具型腔表面，進(jìn)行等離子體刻蝕，離子氣為Ar氣，真空度為1~3Pa，基體負(fù)偏壓為600~800V，時(shí)間為5~20min。