[發(fā)明專利]一種耐候高反射板及其制造方法

無效

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• 申請日: 2012-10-09
• 公開（公告）號: CN103713340A
• 公開（公告）日: 2014-04-09
• 發(fā)明（設計）人: 蔡鴻麟
• 申請（專利權）人: 森鉅科技材料股份有限公司
• 主分類號: G02B5/08
• 分類號: G02B5/08;G02B1/10;B32B27/06
• 代理公司: 北京匯信合知識產權代理有限公司 11335
• 代理人: 陳圣清

1.一種耐候高反射板，其特征在于：其包含：

一反射主體層11，為鋁或鋁合金的其中之一或其二者的組合；

一預處理層12，設在該反射主體層上的氧化物層；

一反射增強層13，設在該預處理層上；及

一透明保護層15，為氟碳涂料并設在該反射增強層上。

2.如權利要求1所述的耐候高反射板，其特征在于：其中該鋁或鋁合金純度大于99.85%；該預處理層為鉻酸、磷酸、鋁金屬氧化物、過渡金屬氧化物或鹽類；及該反射增強層為鋁或鋁合金的其中之一或其二者的組合。

3.如權利要求1所述的耐候高反射板，其特征在于：其中該反射主體層11的厚度系介于0.1-1.2mm之間；該預處理層12的厚度介于800-2000nm之間；該反射增強層13的厚度介于10-300nm之間，粗糙度小于0.1um；及該透明保護層15的厚度系介于6-13um之間。

4.如權利要求1所述的耐候高反射板，其特征在于：其中更包含一光學鍍層14，該光學鍍層設于該反射增強層13與該透明保護層15之間。

5.如權利要求1所述的耐候高反射板，其特征在于：其中該光學鍍層14為二氧化硅(SiO2)或二氧化鈦(TiO2)的其中之一或其二者的組合。

6.如權利要求1所述的耐候高反射板，其特征在于：其中該光學鍍層14的厚度系介于40-120nm之間。

7.如權利要求1所述的耐候高反射板，其中該氟碳涂料為氟碳樹脂70-80Wt.%、美耐敏8-12Wt.%、環(huán)己酮8-10Wt.%及添加劑3-8Wt.%組成，且該添加劑為流平劑、消泡劑、催化劑、分散劑及紫外線吸收劑的其中之一種或多種的組合。

8.如權利要求1所述的耐候高反射板，其特征在于：其中該增強反射層13在可見光波長范圍內的全反射率大于94%；及該透明保護層15在可見光波長范圍內的全反射率大于92%且光澤度損失小于5%。

9.一種耐候高反射板的制造方法，其特征在于：其步驟包含：

提供反射主體層11，為鋁或鋁合金的其中之一或其二者的組合；

在該反射主體層11上用陽極處理，形成一預處理層12；

將鋁或鋁合金的其中之一或其二者的組合沉積在該預處理層表面，形成一反射增強層13；以及

將氟碳涂料涂布在該反射增強層上形成一透明保護層15。

10.如權利要求9所述的耐候高反射板的制造方法，其特征在于：其中該鋁或鋁合金的其中之一或其二者組合的材料的表面經研磨和拋光處理。

11.如權利要求9所述的耐候高反射板的制造方法，其特征在于：其中更包含于陽極處理前先以強酸或強堿并配合研磨，已清洗反射主體層的表面污染物或原生的氧化物。

12.如權利要求9所述的耐候高反射板的制造方法，其中在該反射增強層上先形成一光學鍍層14，再形成該透明保護層15于該光學鍍層上。

13.如權利要求9所述的耐候高反射板的制造方法，其特征在于：其中該透明保護層的氟碳涂料涂布步驟將氟碳樹脂70-80Wt.%、美耐敏8-12Wt.%、環(huán)己酮8-10Wt.%及添加劑3-8Wt.%均勻混合后，均勻涂布并經過加熱烘烤使其硬化，且該添加劑包含流平劑、消泡劑、催化劑、分散劑及紫外線吸收劑其中之一種或多種的組合。

14.如權利要求9所述的耐候高反射板的制造方法，其特征在于：其中該鋁或鋁合金純度大于99.85%；該預處理層為鉻酸、磷酸、鋁金屬氧化物、過渡金屬氧化物或鹽類；及該反射增強層為鋁或鋁合金的其中之一或其二者的組合。

15.如權利要求9所述的耐候高反射板的制造方法，其特征在于：其中該陽極處理包含鉻酸鹽處理、磷化處理或陽極氧化處理。

16.如權利要求12所述的耐候高反射板的制造方法，其特征在于：其中該光學鍍層14為二氧化硅(SiO2)或二氧化鈦(TiO2)的其中之一或其二者的組合。

17.如權利要求13所述的耐候高反射板的制造方法，其特征在于：其中該氟碳涂料的加熱烘烤溫度介于200-300℃之間。

18.如權利要求9所述的耐候高反射板的制造方法，其中該反射增強層13在可見光波長范圍內的全反射率大于94%；及該透明保護層在可見光波長范圍內的全反射率大于92%且光澤度損失小于5%。