[發(fā)明專利]彩膜基板、液晶顯示裝置及制作方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210380262.6 | 申請日： | 2012-09-29 |
| 公開（公告）號： | CN102879948A | 公開（公告）日： | 2013-01-16 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 張思凱;黃常剛;汪棟;吳洪江 | 申請（專利權(quán)）人： | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;北京京東方顯示技術(shù)有限公司 |
| 主分類號： | G02F1/1335 | 分類號： | G02F1/1335 |
| 代理公司： | 北京中博世達(dá)專利商標(biāo)代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 彩膜基板 液晶 顯示裝置 制作方法 | ||
1.一種彩膜基板，包括：基板、依次設(shè)置在所述基板的第一表面上的黑矩陣圖形和彩色濾光膜，其特征在于，與所述基板的第一表面相對設(shè)置的第二表面上設(shè)置有增透膜，所述增透膜上覆蓋有銦錫金屬氧化物ITO層，所述增透膜的折射率大于所述基板的折射率且小于所述ITO的折射率。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述增透膜的圖形與所述彩色濾光膜的圖形相一致。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述增透膜的厚度為d，其中k為自然數(shù)，λ為所需要增透的光的波長。
4.一種液晶顯示裝置，其特征在于，包括權(quán)利要求1-3任一項所述的彩膜基板。
5.一種彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括：
在基板的第二表面上形成增透膜的圖形；
在所述增透膜上形成ITO層；
在所述基板的第一表面上形成黑矩陣圖形；
在所述黑矩陣圖形上形成彩色濾光膜。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述增透膜的圖形與所述彩色濾光膜的圖形相一致。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述增透膜的厚度為d，其中k為自然數(shù)，λ為所需要增透的光的波長。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于京東方科技集團(tuán)股份有限公司;北京京東方顯示技術(shù)有限公司，未經(jīng)京東方科技集團(tuán)股份有限公司;北京京東方顯示技術(shù)有限公司許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201210380262.6/1.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào)，上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的；用于上述操作的技術(shù)或工藝；變頻；非線性光學(xué)；光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如，轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制；非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制，即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的
