[發(fā)明專利]彩膜基板、液晶顯示裝置及制作方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210380262.6 | 申請日: | 2012-09-29 |
| 公開(公告)號: | CN102879948A | 公開(公告)日: | 2013-01-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 張思凱;黃常剛;汪棟;吳洪江 | 申請(專利權(quán))人: | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;北京京東方顯示技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1335 | 分類號: | G02F1/1335 |
| 代理公司: | 北京中博世達(dá)專利商標(biāo)代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 彩膜基板 液晶 顯示裝置 制作方法 | ||
1.一種彩膜基板,包括:基板、依次設(shè)置在所述基板的第一表面上的黑矩陣圖形和彩色濾光膜,其特征在于,與所述基板的第一表面相對設(shè)置的第二表面上設(shè)置有增透膜,所述增透膜上覆蓋有銦錫金屬氧化物ITO層,所述增透膜的折射率大于所述基板的折射率且小于所述ITO的折射率。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述增透膜的圖形與所述彩色濾光膜的圖形相一致。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述增透膜的厚度為d,其中k為自然數(shù),λ為所需要增透的光的波長。
4.一種液晶顯示裝置,其特征在于,包括權(quán)利要求1-3任一項所述的彩膜基板。
5.一種彩膜基板的制作方法,其特征在于,包括:
在基板的第二表面上形成增透膜的圖形;
在所述增透膜上形成ITO層;
在所述基板的第一表面上形成黑矩陣圖形;
在所述黑矩陣圖形上形成彩色濾光膜。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的彩膜基板的制作方法,其特征在于,所述增透膜的圖形與所述彩色濾光膜的圖形相一致。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的彩膜基板的制作方法,其特征在于,所述增透膜的厚度為d,其中k為自然數(shù),λ為所需要增透的光的波長。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





