[發明專利]一種酸性銅蝕刻液及其制備工藝

有效

• 申請號: 201210379057.8
• 申請日: 2012-10-09
• 公開（公告）號: CN102925894A
• 公開（公告）日: 2013-02-13
• 發明（設計）人: 戈士勇
• 申請（專利權）人: 江陰潤瑪電子材料股份有限公司
• 主分類號: C23F1/18
• 分類號: C23F1/18
• 代理公司: 江陰市同盛專利事務所 32210
• 代理人: 唐紉蘭;曾丹

1.一種酸性銅蝕刻液，其特征在于，所述銅蝕刻液質量百分比組成為：硫酸1%~20%、過硫酸鹽5%~25%、表面活性劑0.05~0.5wt?%和余量的純水；所述表面活性劑為非離子型表面活性劑。

2.根據權利要求1所述的一種酸性銅蝕刻液，其特征在于：所述非離子型表面活性劑為烷氧基化C4-C22醇、烷基多葡糖苷、N-烷基多葡糖苷、N-烷基葡糖酰胺、脂肪酸烷氧基化物、脂肪酸聚乙二醇酯、脂肪酸胺烷氧基化物、脂肪酸酰胺烷氧基化物、脂肪酸鏈烷醇酰胺烷氧基化物、N-烷氧基多羥基-脂肪酸酰胺、N-芳氧基多羥基-脂肪酸酰胺、聚異丁烯烷氧基化物、聚異丁烯/馬來酸酐衍生物、脂肪酸甘油酯、脫水山梨糖醇酯、多羥基-脂肪酸衍生物、多烷氧基-脂肪酸衍生物、二甘油酯中的一種或幾種混合物。

3.根據權利要求2所述的一種酸性銅蝕刻液，其特征在于：所述非離子型表面活性劑為N-烷基葡糖酰胺、聚異丁烯/馬來酸酐衍生物、N-芳氧基多羥基-脂肪酸酰胺中的一種或幾種混合物。

4.根據權利要求3所述的一種酸性銅蝕刻液，其特征在于：所述非離子型表面活性劑為N-烷基葡糖酰胺和聚異丁烯/馬來酸酐衍生物的混合物，或者為聚異丁烯/馬來酸酐衍生物和N-芳氧基多羥基-脂肪酸酰胺的混合物。

5.根據權利要求1所述的一種酸性銅蝕刻液，其特征在于：所述過硫酸鹽為過硫酸銨、過硫酸鉀和過硫酸鈉中的一種或幾種的混合。

6.根據權利要求1所述的一種酸性銅蝕刻液，其特征在于：所述硫酸純度為98%。

7.一種酸性銅蝕刻液的制備工藝，其特征在于，所述工藝包括如下步驟：

第一步：將硫酸、過硫酸鹽、表面活性劑和純水四種原料按權利要求1所述配比稱重配置；

第二步：將硫酸加入配料罐中，攪拌下加入過硫酸鹽，將其攪拌均勻；

第三步：往混勻的硫酸和過硫酸鹽混合溶液中加入非離子表面活性劑，然后加入純水，充分攪拌；

第四步：將混合物通入過濾器進行過濾，得到所述銅蝕刻液。

8.根據權利要求7所述的一種酸性銅蝕刻液的制備工藝，其特征在于，所述過濾器的微濾膜孔徑為0.05～0.15μm。

9.根據權利要求7所述的一種酸性銅蝕刻液的制備工藝，其特征在于，所述攪拌為機械攪拌或磁力攪拌。

10.根據權利要求7所述的一種酸性銅蝕刻液的制備工藝，其特征在于，所述攪拌與混合是在常溫、常壓的狀態下進行，所述攪拌的時間為1.5~3小時，攪拌的速度為60~85轉/分鐘。