[發明專利]一種關鍵尺寸測試的校正裝置和方法

有效

• 申請號: 201210378201.6
• 申請日: 2012-10-08
• 公開（公告）號: CN103713471A
• 公開（公告）日: 2014-04-09
• 發明（設計）人: 黃寅虎;劉同軍;白明基
• 申請（專利權）人: 合肥京東方光電科技有限公司;京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F1/44
• 代理公司: 北京派特恩知識產權代理事務所(普通合伙) 11270
• 代理人: 張穎玲;張振偉

1.一種關鍵尺寸測試的校正裝置，其特征在于，該裝置包括掩膜板Mask，所述掩膜板Mask設置有至少一組標記Mark，所述至少一組標記Mark用于在經過刻蝕工藝后在基板上形成能夠獲知關鍵尺寸DICD的實際值的圖形。

2.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述Mark至少由一個Mark單元組成，所述Mark單元包括至少兩個彼此具有距離關系的Mark次單元。

3.根據權利要求2所述的裝置，其特征在于，所述距離關系包括：交疊或間隔一距離。

4.根據權利要求3所述的裝置，其特征在于，所述Mark次單元為長方形或者正方形結構。

5.根據權利要求4所述的裝置，其特征在于，所述Mark次單元為長方形時，所述Mark次單元的排列方式為：沿長方形長邊方向水平排列，或沿長方形長邊方向豎直排列。

6.根據權利要求2至5任一項所述的裝置，其特征在于，當所述一組Mark中包括多個Mark單元時，各Mark單元排布在一條直線上或不在一條直線上。

7.根據權利要求6所述的裝置，其特征在于，

當一組Mark中的各Mark單元排布在一條直線上時，任意相鄰兩個Mark單元之間的距離相同或不同，且各所述Mark單元所包括的所述Mark次單元之間的距離具有數值排列規律或具有不規律的數值排列規律；

當一組Mark中的各Mark單元排布不在一條直線上時，各Mark單元均勻分布或不均勻分布；各所述Mark單元所包括的所述Mark次單元之間的距離具有數值排列規律或具有不規律的數值排列規律。

8.根據權利要求7所述的裝置，其特征在于，

所述數值排列規律包括：等差遞增或等差遞減；

所述均勻分布包括涵蓋中心對稱或軸對稱的對稱分布。

9.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，在所述至少一組Mark中，Mark單元以Mask關鍵尺寸CD為5～30μm為基準。

10.一種關鍵尺寸測試的校正方法，其特征在于，該方法包括：

在Mask上設置至少一組Mark，利用所述Mask進行刻蝕工藝后在基板上形成的圖形獲知DICD的實際值，據此校正CD測試結果。

11.根據權利要求10所述的方法，其特征在于，

所述Mark由Mark單元組成，所述Mark單元包括至少兩個彼此具有距離關系的Mark次單元；

所述獲知DICD的實際值，據此校正CD測試結果的過程包括：由微觀圖像獲取設備獲取利用所述Mask經過刻蝕工藝之后所形成的圖形，根據其中的Mark次單元由交疊或間隔一距離變為恰好咬合的情況獲知DICD的實際值，將該值與測試設備檢測到的DICD值進行比較，根據比較所得的差值校正CD測試結果。

12.根據權利要求10或11所述的方法，其特征在于，

所述Mask上設置有多組Mark時，所述DICD的實際值是針對利用所述Mask在基板上形成的各組Mark所獲知的DICD實際值求平均所得的值。

13.根據權利要求11所述的方法，其特征在于，所述方法應用于光刻工藝中。