[發明專利]用于改善容量特性的平衡接口感測外形

有效

• 申請號: 201210377053.6
• 申請日: 2012-09-28
• 公開（公告）號: CN103711963B
• 公開（公告）日: 2018-07-24
• 發明（設計）人: 范國磊;周彪;J·S·梅維宇斯
• 申請（專利權）人: 艾默生過程管理調節技術公司
• 主分類號: F16K17/22
• 分類號: F16K17/22
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 曹雯

1.一種流體調節器，包括：

調節閥，其具有入口、出口以及設置在所述入口和所述出口之間的閥口；

致動器，其耦接至所述調節閥并包括閥盤，所述閥盤設置在所述調節閥內部，并適于沿著縱向軸線在閉合位置和開放位置之間移動，在所述閉合位置，所述閥盤密封地接合所述閥口，在所述開放位置，所述閥盤布置成遠離所述閥口，所述閥盤沿著所述縱向軸線從第一端延伸至第二端；

所述閥盤包括：

密封表面，其與所述閥盤的徑向外端相鄰設置，所述密封表面適于在所述閉合位置密封地接合所述閥口；

中間表面，其由所述密封表面徑向向內設置；以及

凹槽，其形成于所述中間表面上，所述凹槽沿著凹槽軸線延伸，所述凹槽軸線沿著垂直于所述縱向軸線的所述中間表面延伸，所述凹槽軸線在沿著所述縱向軸線看時至少部分是弧形的，其中一個或多個盤形通道縱向穿過所述閥盤從所述閥盤的所述第一端延伸至所述第二端，并且其中至少一個盤形通道的第一端被鄰近所述閥盤的所述第一端進行設置并且所述至少一個閥盤的所述第一端徑向地設置在所述密封表面和所述凹槽之間。

2.根據權利要求1所述的流體調節器，其中，所述凹槽軸線在沿著所述縱向軸線看時具有圓形的形狀。

3.根據權利要求1所述的流體調節器，其中，所述凹槽軸線在沿著所述縱向軸線看時具有部分圓形的形狀。

4.根據權利要求1所述的流體調節器，其中，所述凹槽在沿著所述凹槽軸線看時具有恒定的截面形狀。

5.根據權利要求1所述的流體調節器，其中，所述凹槽具有垂直于所述縱向軸線的平坦的頂壁。

6.根據權利要求5所述的流體調節器，其中，所述凹槽在垂直于所述凹槽軸線看時具有梯形截面形狀，所述梯形截面形狀包括第一側壁和第二側壁，在所述第一側壁和第二側壁遠離所述中間表面并朝向所述頂壁延伸時，所述第一側壁和第二側壁中每個都向內收縮。

7.根據權利要求6所述的流體調節器，其中，所述梯形截面形狀關于垂直于所述凹槽軸線的軸線對稱形成。

8.根據權利要求5所述的流體調節器，其中，所述凹槽在垂直于所述凹槽軸線看時具有至少部分弧形的截面形狀。

9.根據權利要求1所述的流體調節器，其中，還包括平衡彈簧，所述平衡彈簧作用在所述閥盤的一部分上以將所述閥盤偏置進入所述開放位置。

10.根據權利要求9所述的流體調節器，其中，所述平衡彈簧選自多個平衡彈簧，以獲得通過所述流體調節器的理想流動狀態。

11.一種流體調節器，包括：

調節閥，其具有入口、出口以及設置在所述入口和所述出口之間的閥口；

致動器，其耦接至所述調節閥并包括閥盤，所述閥盤設置在所述調節閥內部，并適于沿著縱向軸線在閉合位置和開放位置之間移動，在所述閉合位置，所述閥盤密封地接合所述閥口，在所述開放位置，所述閥盤布置成遠離所述閥口，所述閥盤沿著所述縱向軸線從第一端延伸至第二端；

所述閥盤包括：

密封表面，其與所述閥盤的徑向外端相鄰設置，所述密封表面適于在所述閉合位置密封地接合所述閥口；以及

中間表面，其由所述密封表面徑向向內設置，其中，所述中間表面包括沿著所述縱向軸線朝向所述閥口延伸的凸起，其中一個或多個盤形通道縱向穿過所述閥盤從所述閥盤的所述第一端延伸至所述第二端，并且其中至少一個盤形通道的第一端被鄰近所述閥盤的所述第一端進行設置并且所述至少一個閥盤的所述第一端徑向地設置在所述密封表面和所述凸起之間。

12.根據權利要求11所述的流體調節器，其中，所述中間表面的截面包括第一邊緣和第二邊緣，所述第一邊緣和所述第二邊緣隨著所述中間表面朝向所述閥口延伸而交匯。