[發(fā)明專利]光罩及其制造方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210375589.4 | 申請日： | 2012-09-27 |
| 公開（公告）號： | CN103698971A | 公開（公告）日： | 2014-04-02 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 金普楠;常聰 | 申請（專利權(quán)）人： | 中芯國際集成電路制造（上海）有限公司 |
| 主分類號： | G03F1/64 | 分類號： | G03F1/64;G03F1/54 |
| 代理公司： | 北京德琦知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11018 | 代理人： | 牛崢;王麗琴 |
| 地址： | 201203 *** | 國省代碼： | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 及其 制造 方法 | ||
1.一種光罩的制造方法，包括：
提供未安裝保護膜的光罩，其包括透明基材及設(shè)置于透明基材上表面的吸收層；
使用去離子水清洗所述未安裝保護膜的光罩，在所述透明基材上表面形成一層透光的光致超親水性薄膜；
安裝保護膜。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，在使用去離子水清洗所述未安裝保護膜的光罩后，以及在所述透明基材上表面形成一層透光的光致超親水性薄膜之前，還包括光罩缺陷檢驗的步驟。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，在安裝保護膜后，還包括使用去離子水清洗光罩的步驟，以及光罩缺陷檢驗的步驟。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3任一項所述的方法，其特征在于，在所述透明基材下表面也形成有一層透光的光致超親水性薄膜。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，所述透光的光致超親水性薄膜的為二氧化鈦光催化薄膜。
6.一種光罩，包括透明基材、位于透明基材上表面的吸收層，以及設(shè)置于吸收層之上的保護膜和用于固定所述保護膜的框架，其特征在于，未覆蓋有吸收層的所述透明基材的上表面還設(shè)置有一層透光的光致超親水性薄膜。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光罩，其特征在于，所述透明基材下表面也設(shè)置有一層透光的光致超親水性薄膜。
8.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的光罩，其特征在于，所述透光的光致超親水性薄膜為二氧化鈦光催化薄膜。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其專門適用于此的容器；其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如通過電子束；其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜；其制備，例如光學(xué)臨近校正(OPC)設(shè)計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜，例如用于校準(zhǔn)或測試的特殊涂層或標(biāo)記；其制備
