[發(fā)明專利]一種組分可控的ZrOx薄膜的制備方法無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210374157.1 | 申請(qǐng)日： | 2012-10-07 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN102839354A | 公開（公告）日： | 2012-12-26 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 李晶;朱煥鋒 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 復(fù)旦大學(xué) |
| 主分類號(hào)： | C23C14/35 | 分類號(hào)： | C23C14/35;C23C14/08 |
| 代理公司： | 上海正旦專利代理有限公司 31200 | 代理人： | 陸飛;盛志范 |
| 地址： | 200433 *** | 國(guó)省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 組分 可控 zro sub 薄膜 制備 方法 | ||
1.?一種組分可控的ZrOx薄膜的制備方法,?其特征在于利用高真空磁控濺射鍍膜系統(tǒng)，采用純度為4N的金屬鋯作為靶材，固定如下制備條件：室溫，固定金屬Zr靶的濺射功率為150?W，背景真空氣壓為6.0×10-6?mbar，工作氣體為高純氬與高純氧，工作氣壓為4.0×10-3?mbar，通過控制反應(yīng)氣體氧氣與工作氣體氬氣的流量比，來改變制備ZrOx薄膜中氧元素的含量，即控制氧氬流量比為O2:Ar?=?(4～8):35?sccm，當(dāng)氧氬流量比為O2:Ar?=?(4～6):35?sccm時(shí)，獲得的ZrOx薄膜的物理性質(zhì)為順磁性，當(dāng)氧氬流量比為O2:Ar?=?6～8:35?sccm時(shí)，獲得的ZrOx薄膜的物理性質(zhì)逐步轉(zhuǎn)變?yōu)殍F磁性。
2.?根據(jù)權(quán)利要求1所述的組分可控的ZrOx薄膜的制備方法,?其特征在于控制氧氬流量比為O2:Ar?=?(4,6):35?sccm時(shí)，獲得的ZrOx薄膜的物理性質(zhì)為順磁性，控制氧氬流量比為O2:Ar?=?8:35?sccm時(shí)，獲得的ZrOx薄膜的物理性質(zhì)為鐵磁性。
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- 專利分類
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面擴(kuò)散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
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