[發明專利]配向膜、彩膜基板、陣列基板、液晶顯示裝置及制造方法

有效

• 申請號: 201210372101.2
• 申請日: 2012-09-28
• 公開（公告）號: CN102854663A
• 公開（公告）日: 2013-01-02
• 發明（設計）人: 王輝;郭磊;王春;葉訢;秦鋒
• 申請（專利權）人: 合肥京東方光電科技有限公司;京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: G02F1/1337
• 分類號: G02F1/1337;G02F1/1335;G02F1/136;G02F1/1339;G02F1/1333;H01L27/12;H01L21/77
• 代理公司: 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112
• 代理人: 羅建民;陳源

1.一種配向膜，包括：配向膜中間部分和配向膜周邊部分，所述配向膜中間部分形成于顯示區域，所述配向膜周邊部分形成于所述顯示區域周邊的周邊區域，其特征在于，所述配向膜周邊部分具有鏤空結構。

2.根據權利要求1所述的配向膜，其特征在于，所述配向膜周邊部分包括多個環形結構，所述鏤空結構為相鄰所述環形結構之間的間隔。

3.根據權利要求2所述的配向膜，其特征在于，所述環形結構之間間隔的寬度大于0.05mm且小于0.3mm。

4.根據權利要求3所述的配向膜，其特征在于，與所述配向膜中間部分相連接的配向膜周邊部分的寬度大于或等于0.1mm。

5.一種彩膜基板，其特征在于，包括：彩膜基板結構和形成于所述彩膜基板結構之上的彩膜基板配向膜，所述彩膜基板配向膜采用上述權利要求1至4任一所述的配向膜。

6.一種陣列基板，其特征在于，包括：陣列基板結構和形成于所述陣列基板結構之上的陣列基板配向膜，所述陣列基板配向膜采用上述權利要求1至4任一所述的配向膜。

7.一種液晶顯示裝置，包括：彩膜基板和陣列基板，所述彩膜基板和所述陣列基板相對設置，所述彩膜基板和所述陣列基板之間填充有液晶層，所述彩膜基板和所述陣列基板之間還形成有封框膠，其特征在于，

所述彩膜基板采用如上述權利要求5所述的彩膜基板，和/或所述陣列基板采用如上述權利要求6所述的陣列基板。

8.根據權利要求7所述的液晶顯示裝置，其特征在于，所述封框膠的內側邊緣與顯示區域邊緣的距離大于或等于0.1mm。

9.一種彩膜基板的制造方法，其特征在于，包括：

形成彩膜基板結構；

在所述彩膜基板結構上形成彩膜基板配向膜，所述彩膜基板配向膜包括配向膜中間部分和配向膜周邊部分，所述配向膜中間部分形成于顯示區域，所述配向膜周邊部分形成于所述顯示區域周邊的周邊區域，所述配向膜周邊部分具有鏤空結構。

10.根據權利要求9所述的制造方法，其特征在于，在所述彩膜基板結構上形成彩膜基板配向膜包括：

在所述彩膜基板結構上形成彩膜配向膜液態材料；

將干涉板放置于所述彩膜基板結構上，所述干涉板包括基底和設置于所述基底上的間隔探針，所述間隔探針與所述彩膜基板結構接觸并位于所述周邊區域中，所述間隔探針用于使所述配向膜周邊部分具有鏤空結構；

對所述彩膜配向膜液態材料進行加熱處理，形成所述彩膜基板配向膜；

將所述干涉板和所述彩膜基板結構分離。

11.根據權利要求10所述的制造方法，其特征在于，所述間隔探針為環形探針。

12.根據權利要求10所述的制造方法，其特征在于，所述干涉板的材料包括多晶硅、非多晶硅和氮化硅中之一或其任意組合。

13.根據權利要求10所述的制造方法，其特征在于，所述間隔探針的表面具有疏水性。

14.一種陣列基板的制造方法，其特征在于，包括：

形成陣列基板結構；

在所述陣列基板結構上形成陣列基板配向膜，所述陣列基板配向膜包括配向膜中間部分和配向膜周邊部分，所述配向膜中間部分形成于顯示區域，所述配向膜周邊部分形成于所述顯示區域周邊的周邊區域，所述配向膜周邊部分具有鏤空結構。

15.根據權利要求14所述的制造方法，其特征在于，在所述陣列基板結構上形成陣列基板配向膜包括：

在所述陣列基板結構上形成陣列配向膜液態材料；

將干涉板放置于所述陣列基板結構上，所述干涉板包括基底和設置于所述基底上的間隔探針，所述間隔探針與所述陣列基板結構接觸并與所述周邊區域的位置對應，所述間隔探針用于使所述配向膜周邊部分具有鏤空結構；

對所述陣列配向膜液態材料進行加熱處理，形成所述陣列基板配向膜；

將所述干涉板和所述陣列基板結構分離。

16.根據權利要求15所述的制造方法，其特征在于，所述間隔探針為環形探針。

17.根據權利要求15所述的制造方法，其特征在于，所述干涉板的材料包括多晶硅、非多晶硅和氮化硅中之一或其任意組合。