[發明專利]以時間基準為參照的精密光柵制造方法

有效

• 申請號: 201210371250.7
• 申請日: 2012-09-28
• 公開（公告）號: CN102866444A
• 公開（公告）日: 2013-01-09
• 發明（設計）人: 劉紅忠;蔣維濤;楊俊;丁玉成;盧秉恒
• 申請（專利權）人: 西安交通大學
• 主分類號: G02B5/18
• 分類號: G02B5/18
• 代理公司: 西安通大專利代理有限責任公司 61200
• 代理人: 汪人和

1.以時間基準為參照的精密光柵制造方法，其特征在于，包括如下步驟：

1)清洗待加工工件；

2)時間映射長度的轉換：根據待加工工件的結構參數、工件的材料，對工件進行加工的高能束的脈寬、能量密度以及工件的進給速度，進行以時間為基準映射長度基準的轉換，得到以時間為基準的納米加工控制量：溝槽處連續加工脈沖數N₁和高能束循環加工次數N₂；

3)根據脈沖數N₁控制時鐘開關的打開、根據高能束循環加工次數N₂達到所需納米結構的槽深，進行精密光柵的制造。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于：所述步驟2)中溝槽處連續加工脈沖數N₁和高能束循環加工次數N₂的計算方法如下：

首先，計算單個溝槽處脈沖連續加工時間t₁：溝槽處連續加工脈沖數N₁：

N1=t1ΔT=L1vΔT;]]>

然后，計算單個凸起處脈沖停止工作時間t₂：高能束循環加工次數N₂：

N2=Hh;]]>

其中，待加工工件的納米結構：L₁為槽寬，L₂為凸起寬度，H為槽深，ΔT為高能束脈寬，h為單次脈沖加工的深度；v為待加工工件的進給速度。

3.根據權利要求2所述的方法，其特征在于：通過調節高能束的脈寬ΔT、高能束束斑的工作能量密度和工件的進給速度v，調節光柵的加工精度。

4.根據權利要求1-3任一項所述的方法，其特征在于：對于納米尺度為10nm~100nm的周期的光柵加工，所述高能束為電子束或離子束。

5.根據權利要求1-3任一項所述的方法，其特征在于：對于亞微米至微米尺度為100nm~20μm周期的光柵加工，所述高能束為離子束或激光。