[發(fā)明專利]陣列揚(yáng)聲器系統(tǒng)無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210370950.4 | 申請日: | 2012-09-28 |
| 公開(公告)號: | CN103037281A | 公開(公告)日: | 2013-04-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 金谷仁史 | 申請(專利權(quán))人: | TEI株式會社 |
| 主分類號: | H04R1/20 | 分類號: | H04R1/20 |
| 代理公司: | 北京信慧永光知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11290 | 代理人: | 李雪春;王維玉 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 陣列 揚(yáng)聲器 系統(tǒng) | ||
1.一種陣列揚(yáng)聲器系統(tǒng),其特征在于包括:
多個揚(yáng)聲器單元,對應(yīng)輸入的信號分別輻射聲音;以及
支承所述多個揚(yáng)聲器單元的外殼,
所述多個揚(yáng)聲器單元分別包括:
驅(qū)動振動構(gòu)件的揚(yáng)聲器,所述振動構(gòu)件對應(yīng)所述信號輻射聲音;以及
支承所述揚(yáng)聲器的后空腔諧振箱,
所述后空腔諧振箱在與所述振動構(gòu)件的聲輻射面相反的一側(cè)形成背面空間。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列揚(yáng)聲器系統(tǒng),其特征在于,多個揚(yáng)聲器單元的各所述后空腔諧振箱的形狀和尺寸相互一致。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的陣列揚(yáng)聲器系統(tǒng),其特征在于,所述外殼支承排成一列且以相同的間隔配置的所述多個揚(yáng)聲器單元。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任意一項(xiàng)所述的陣列揚(yáng)聲器系統(tǒng),其特征在于,包括部分空間,在該部分空間中,以垂直所述多個揚(yáng)聲器單元配置方向的面切割的、所述背面空間的斷面的面積,沿所述多個揚(yáng)聲器單元配置方向?yàn)橐欢ā?/p>
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的陣列揚(yáng)聲器系統(tǒng),其特征在于,所述背面空間中除所述部分空間外的空間、被垂直所述多個揚(yáng)聲器單元配置方向的面切割的斷面的面積,小于所述部分空間的面積。
6.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的陣列揚(yáng)聲器系統(tǒng),其特征在于,除所述部分空間外的空間與所述部分空間連通。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任意一項(xiàng)所述的陣列揚(yáng)聲器系統(tǒng),其特征在于,構(gòu)成所述多個揚(yáng)聲器單元的各所述振動構(gòu)件所具有的聲輻射面,具有包含一對長邊和相互并列的一對短邊的輪廓,所述一對長邊相對所述多個揚(yáng)聲器單元配置方向平行延伸。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任意一項(xiàng)所述的陣列揚(yáng)聲器系統(tǒng),其特征在于,所述多個揚(yáng)聲器單元分別具有填充在所述背面空間中的吸音構(gòu)件。
9.根據(jù)權(quán)利要求1至8中任意一項(xiàng)所述的陣列揚(yáng)聲器系統(tǒng),其特征在于,所述聲輻射面形成為沿所述多個揚(yáng)聲器單元配置方向擴(kuò)展的平面狀。
10.根據(jù)權(quán)利要求1至9中任意一項(xiàng)所述的陣列揚(yáng)聲器系統(tǒng),其特征在于,所述背面空間被實(shí)質(zhì)性密封。
11.根據(jù)權(quán)利要求1至7、9、10中任意一項(xiàng)所述的陣列揚(yáng)聲器系統(tǒng),其特征在于,
所述多個揚(yáng)聲器單元分別具有填充在所述背面空間中的吸音構(gòu)件,
所述吸音構(gòu)件由多個吸音特性不同的吸音件構(gòu)成。
12.根據(jù)權(quán)利要求4至6中任意一項(xiàng)所述的陣列揚(yáng)聲器系統(tǒng),其特征在于,
所述多個揚(yáng)聲器單元分別具有填充在所述背面空間中的吸音構(gòu)件,
在所述背面空間中、除所述部分空間外的空間上,設(shè)有吸音特性不同的多個吸音構(gòu)件。
13.根據(jù)權(quán)利要求1至12中任意一項(xiàng)所述的陣列揚(yáng)聲器系統(tǒng),其特征在于,所述揚(yáng)聲器單元的正面具有相對所述聲輻射面、一部分形成缺口的形狀。
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