[發(fā)明專利]一種銑削用定位裝置加工工藝在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210370473.1 | 申請日: | 2012-09-27 |
| 公開(公告)號: | CN103042360A | 公開(公告)日: | 2013-04-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 高俊;邵光勇 | 申請(專利權(quán))人: | 蘇州市意可機(jī)電有限公司 |
| 主分類號: | B23P15/00 | 分類號: | B23P15/00;B23C3/00 |
| 代理公司: | 蘇州銘浩知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 32246 | 代理人: | 張一鳴 |
| 地址: | 215106 江蘇省蘇州市吳中區(qū)*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 銑削 定位 裝置 加工 工藝 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種機(jī)械加工方法,特別是一種銑削用定位裝置加工工藝。?
背景技術(shù)
在銑削加工過程中,定位工裝起著十分重要的作用。其用于確定一些特殊的工件在機(jī)床上的正確加工位置,保障加工精度。通常的銑削加工中利用臺虎鉗或者是爪盤將工件卡緊定位,然后完成進(jìn)一步的工序。但對于一些形狀比較特殊或者體積超出原裝夾工裝的工件就需要一些專用的定位工裝以實(shí)現(xiàn)其定位目的,完成加工。?
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明主要解決的技術(shù)問題是提供一種銑削用定位裝置加工工藝,其設(shè)計合理,機(jī)構(gòu)簡單,可以快速有效的對工件進(jìn)行定位,可以優(yōu)化加工工序,提高工作效率。?
為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明采用的一個技術(shù)方案是:提供一種銑削用定位裝置加工工藝,第一,下料:根據(jù)圖紙要求確定材料尺寸;第二,精銑:精銑零件所有尺寸;第三,去毛刺:將工件表面毛刺清理;第四、表面處理:工件表面本色陽極處理;第五,包裝入庫:每件零件用氣泡袋單獨(dú)包裝入庫。?
優(yōu)選的是,所述第二步精銑包括精銑(1)、精銑(2)、精銑(3)、精銑(4):精銑(1)精銑反面凹槽;精銑(2)銑Φ3.4和Φ6.6的通孔及邊緣U型槽;精銑(3)精銑側(cè)面的深槽;精銑(4)精銑端面。?
本發(fā)明的有益效果是:本發(fā)明一種銑削用定位裝置加工工藝,其設(shè)計合理,機(jī)構(gòu)簡單,可以快速有效的對工件進(jìn)行定位,可以優(yōu)化加工工序,提高工作效率,在保證產(chǎn)品質(zhì)量的同時提高了加工效率降低勞動成本,也提高了產(chǎn)能。?
附圖說明
下面結(jié)合附圖對本發(fā)明技術(shù)方案作進(jìn)一步說明:?
附圖1為本發(fā)明的銑削用定位裝置成品主視示意圖;
附圖2為本發(fā)明的銑削用定位裝置成品左視示意圖;
附圖3為本發(fā)明的銑削用定位裝置成品俯視示意圖;
附圖4為本發(fā)明的銑削用定位裝置成品仰視示意圖;
其中:1、反面凹槽;2、側(cè)面深槽;3、Φ6.6通孔;4、Φ3.4通孔;5、邊緣U型槽。??
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖對本發(fā)明的較佳實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)闡述,以使本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)和特征能更易于被本領(lǐng)域技術(shù)人員理解,從而對本發(fā)明的保護(hù)范圍做出更為清楚明確的界定。?
請參閱圖1至圖3,本發(fā)明實(shí)施例包括:一種銑削用定位裝置加工工藝,第一,下料:根據(jù)圖紙要求確定材料尺寸;第二,精銑:精銑零件所有尺寸;第三,去毛刺:將工件表面毛刺清理;第四、表面處理:工件表面本色陽極處理;第五,包裝入庫:每件零件用氣泡袋單獨(dú)包裝入庫。所述第二步精銑包括精銑(1)、精銑(2)、精銑(3)、精銑(4):精銑(1)精銑反面凹槽1;精銑(2)銑Φ3.43通孔和Φ6.6通孔4及邊緣U型槽5;精銑(3)精銑側(cè)面的深槽2;精銑(4)精銑端面。?
本發(fā)明一種銑削用定位裝置加工工藝,其設(shè)計合理,機(jī)構(gòu)簡單,可以快速有效的對工件進(jìn)行定位,可以優(yōu)化加工工序,提高工作效率,在保證產(chǎn)品質(zhì)量的同時提高了加工效率降低勞動成本,也提高了產(chǎn)能。?
上述實(shí)施例只為說明本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思及特點(diǎn),其目的在于讓熟悉此項技術(shù)的人士能夠了解本發(fā)明的內(nèi)容并加以實(shí)施,并不能以此限制本發(fā)明的保護(hù)范圍,凡根據(jù)本發(fā)明精神實(shí)質(zhì)所作的等效變化或修飾,都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍內(nèi)。?
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