[發(fā)明專利]噴墨記錄設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210369840.6
• 申請日: 2012-09-28
• 公開（公告）號: CN103129172A
• 公開（公告）日: 2013-06-05
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 川俁范幸
• 申請（專利權(quán)）人: 兄弟工業(yè)株式會社
• 主分類號: B41J13/00
• 分類號: B41J13/00;B41J2/01
• 代理公司: 中原信達知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11219
• 代理人: 黃剛;車文

相關(guān)申請的交叉引用

本申請要求2011年11月28日提交的日本專利申請JP2011-259604的優(yōu)先權(quán)，其公開內(nèi)容在此通過引用以其整體并入。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種在記錄介質(zhì)上記錄圖像的噴墨記錄設(shè)備。

背景技術(shù)

通常，已知噴墨記錄設(shè)備包括記錄部，其被構(gòu)造成通過噴墨記錄方法將圖像記錄在通過輸送路徑輸送的記錄介質(zhì)上。作為在這樣的噴墨記錄設(shè)備中輸送的記錄介質(zhì)，不僅利用薄記錄紙，也利用更厚的光面紙和明信片。

此外，在這樣的噴墨記錄設(shè)備中，當(dāng)在記錄介質(zhì)上記錄圖像時，將記錄介質(zhì)支撐在壓盤上。此時，需要以高精度調(diào)整記錄部和被支撐在壓盤上的記錄介質(zhì)之間的間隙。然而，上述間隙隨著記錄介質(zhì)的厚度而變化。結(jié)果，可能不合意地降低被記錄在記錄介質(zhì)上的圖像的質(zhì)量。

為了解決這樣的問題，日本專利申請?zhí)亻_2006-315272公開已知的記錄設(shè)備，該記錄設(shè)備具有被構(gòu)造成在兩個預(yù)定位置之間移動壓盤的機構(gòu)。由此，能夠隨著薄記錄介質(zhì)諸如記錄紙等，或隨著厚記錄介質(zhì)諸如明信片等改變壓盤的位置。結(jié)果，能夠調(diào)整記錄部和記錄介質(zhì)之間的上述間隙。

然而，在噴墨記錄設(shè)備中輸送的是各種類型厚度的記錄介質(zhì)。此外，即使對于相同類型的記錄介質(zhì)，厚度也仍然可能根據(jù)每個記錄介質(zhì)變化。也就是說，所輸送的記錄介質(zhì)的厚度為不確定因素。

發(fā)明內(nèi)容

考慮到以上問題而作出本發(fā)明，并且其目標(biāo)在于提供一種噴墨記錄設(shè)備，其能夠不取決于記錄介質(zhì)的厚度的情況下保持記錄介質(zhì)和記錄位置之間不變的間隙。

根據(jù)本教導(dǎo)的第一方面，提供一種噴墨記錄設(shè)備，所述噴墨記錄設(shè)備包括：

輸送輥，所述輸送輥被設(shè)置在輸送路徑中，通過所述輸送路徑引導(dǎo)記錄介質(zhì)，并且所述輸送輥被構(gòu)造成沿所述輸送路徑在輸送方向上輸送所述記錄介質(zhì)；

從動輥，所述從動輥與所述輸送輥相對設(shè)置，以將所述記錄介質(zhì)夾在所述從動輥和所述輸送輥之間，從而沿所述輸送路徑輸送所述記錄介質(zhì)，同時，基于被夾在所述從動輥和所述輸送輥之間的所述記錄介質(zhì)的厚度，所述從動輥在接離方向上移動，從而接近或離開所述輸送輥；

第一偏壓構(gòu)件，所述第一偏壓構(gòu)件將所述從動輥偏壓至所述輸送輥；

壓盤，所述壓盤被設(shè)置在所述輸送路徑的下方，且被設(shè)置在所述輸送輥的沿所述輸送方向的下游側(cè)上，并且所述壓盤被構(gòu)造成支撐通過所述輸送路徑輸送的所述記錄介質(zhì)；

記錄部分，所述記錄部分被設(shè)置在所述輸送路徑的上方，從而所述記錄部分面對所述壓盤，并且所述記錄部分被構(gòu)造成從噴嘴噴射墨滴，以在被支撐在所述壓盤上的所述記錄介質(zhì)上記錄圖像；以及

協(xié)作部分，所述協(xié)作部分被構(gòu)造成隨著所述從動輥在所述接離方向上的移動而移動，以移動所述壓盤。

在該情況下，通過將記錄介質(zhì)夾在從動輥和輸送輥之間，從動輥在接離方向上移動與記錄介質(zhì)的厚度相等的距離。當(dāng)從動輥在接離方向上移動時，由于協(xié)作部分，支撐記錄介質(zhì)的壓盤因而移動和記錄介質(zhì)的厚度一樣多的距離。也就是說，壓盤在接離方向上的移動距離與記錄介質(zhì)的厚度相同。

在根據(jù)本教導(dǎo)的噴墨記錄設(shè)備中，協(xié)作部分可包括：支撐構(gòu)件，所述支撐構(gòu)件可旋轉(zhuǎn)地支撐所述從動輥，并且所述支撐構(gòu)件與所述從動輥一體移動；接觸部分，所述接觸部分被設(shè)置在所述壓盤上，并且所述接觸部分被構(gòu)造成與所述支撐構(gòu)件接觸；被接觸部分，所述被接觸部分被設(shè)置在所述支撐構(gòu)件上，以被所述接觸部分接觸；以及第二偏壓構(gòu)件，所述第二偏壓構(gòu)件將所述壓盤偏壓至所述支撐構(gòu)件；并且

由于所述被接觸部分擠壓所述接觸部分，所以壓盤可抵抗所述第二偏壓構(gòu)件的偏壓力而移動。

根據(jù)該構(gòu)造，能夠使壓盤在接離方向上的移動距離等于記錄介質(zhì)的厚度。

根據(jù)本教導(dǎo)的噴墨記錄設(shè)備還可包括排出輥，所述排出輥被設(shè)置在所述輸送路徑的下方，且被設(shè)置在所述壓盤的沿所述輸送方向的下游側(cè)上，并且所述排出輥被構(gòu)造成在所述輸送方向上輸送所述記錄介質(zhì)，

其中所述壓盤可以被構(gòu)造成繞所述排出輥的軸旋轉(zhuǎn)；并且

所述接觸部分可以被設(shè)置在所述壓盤的旋轉(zhuǎn)端部上。

在根據(jù)本教導(dǎo)的噴墨記錄設(shè)備中，所述接觸部分和所述被接觸部分可以分別包括在與所述輸送方向垂直的寬度方向上間隔開的多個接觸部分和多個被接觸部分；并且

所述第二偏壓構(gòu)件可以包括被設(shè)置在所述寬度方向上與所述接觸部分及所述被接觸部分面對的位置中的多個第二偏壓構(gòu)件。