[發明專利]彩膜基板及其制造方法在審
申請號: | 201210367961.7 | 申請日: | 2012-12-10 |
公開(公告)號: | CN103869531A | 公開(公告)日: | 2014-06-18 |
發明(設計)人: | 溫福正 | 申請(專利權)人: | 上海天馬微電子有限公司 |
主分類號: | G02F1/1335 | 分類號: | G02F1/1335;G02F1/167;G03F7/00;H01L21/77 |
代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
地址: | 201201 上海*** | 國省代碼: | 上海;31 |
權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索關鍵詞: | 彩膜基板 及其 制造 方法 | ||
1.一種彩膜基板,包括:
基板;
位于所述基板上的呈陣列排布的色阻,所述呈陣列排布的色阻包括紅色色阻、綠色色阻、藍色色阻;
其特征在于,所述成陣列排布的色阻還包括合成色阻,所述合成色阻由第一色阻部分和第二色阻部分疊加形成,所述第一色阻部分和第二色阻部分分別是紅色色阻、綠色色阻、藍色色阻中任意兩種色阻。
2.如權利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,還包括位于所述陣列排布的色阻之間的黑矩陣。
3.如權利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述合成色阻的厚度與所述紅色色阻或者綠色色阻或者藍色色阻的厚度相同。
4.如權利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述紅色色阻或者綠色色阻或者藍色色阻具有第一厚度,所述第一色阻部分具有第二厚度,所述第二色阻部分具有第三厚度。
5.如權利要求4所述的彩膜基板,其特征在于,所述第二厚度或者第三厚度大于零且小于第一厚度。
6.如權利要求4所述的彩膜基板,其特征在于,所述第二厚度與所述第三厚度相同或者不同。
7.一種平板顯示裝置,其特征在于,包括如權利要求1所述的彩膜基板。
8.如權利要求7所述的顯示裝置,其特征在于,所述平板顯示裝置為液晶顯示器,包括所述彩膜基板、與所述彩膜基板相對設置的陣列基板以及填充于所述彩膜基板和陣列基板之間的液晶。
9.如權利要求7所述的顯示裝置,其特征在于,所述平板顯示裝置為電子紙顯示器,包括所述彩膜基板、與所述彩膜基板相對設置的陣列基板以及填充于所述彩膜基板和陣列基板之間的電子墨水。
10.如權利要求7所述的顯示裝置,其特征在于,所述平板顯示裝置為等離子顯示器或者場發射顯示器。
11.一種彩膜基板的制造方法,包括:
提供基板;
在所述基板上涂覆第一色阻層;
通過采用半透膜掩模板曝光、顯影、刻蝕,圖案化所述第一色阻層,形成第一色阻和合成色阻的第一部分,所述第一色阻具有第一厚度,所述合成色阻的第一部分具有第二厚度;
在所述第一色阻和合成色阻的第一部分上涂覆第二色阻層;
通過采用半透膜掩模板曝光、顯影、刻蝕,圖案化所述第二色阻層,形成第二色阻和合成色阻的第二部分,所述第二色阻具有第一厚度,所述合成色阻的第二部分具有第三厚度;
所述第一色阻或者第二色阻是紅色色阻、綠色色阻、藍色色阻中的任意一種色阻,所述第一色阻不同于所述第二色阻。
12.如權利要求11所述的制造方法,其特征在于,還包括:
在所述第一色阻、第二色阻、合成色阻的第二部分上涂覆第三色阻層;
通過曝光、顯影、刻蝕,圖案化所述第三色阻層,形成具有第一厚度的第三色阻;
所述第三色阻是紅色色阻、綠色色阻、藍色色阻中除去第一色阻和第二色阻后的剩下的那種色阻。
13.如權利要求11所述的制造方法,其特征在于,所述第二厚度與所述第三厚度之和等于所述第一厚度。
14.如權利要求13所述的制造方法,其特征在于,所述第二厚度或者第三厚度大于零且小于第一厚度。
15.如權利要求13所述的制造方法,其特征在于,所述第二厚度與所述第三厚度相同或者不同。
16.如權利要求11所述的制造方法,其特征在于,還包括通過光刻工藝形成位于所述第一色阻、第二色阻以及合成色阻兩兩之間的黑矩陣。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于上海天馬微電子有限公司,未經上海天馬微電子有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201210367961.7/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。