[發(fā)明專利]一種復(fù)雜背景下運(yùn)動(dòng)目標(biāo)相關(guān)匹配跟蹤方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210365935.0 | 申請(qǐng)日: | 2012-09-27 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103700115A | 公開(kāi)(公告)日: | 2014-04-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 馮雪;崔述金;王楠;石春雷 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)航天科工集團(tuán)第二研究院二O七所 |
| 主分類號(hào): | G06T7/20 | 分類號(hào): | G06T7/20;H04N7/18 |
| 代理公司: | 核工業(yè)專利中心 11007 | 代理人: | 高尚梅 |
| 地址: | 100854*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 復(fù)雜 背景 運(yùn)動(dòng) 目標(biāo) 相關(guān) 匹配 跟蹤 方法 | ||
1.一種復(fù)雜背景下運(yùn)動(dòng)目標(biāo)相關(guān)匹配跟蹤方法,應(yīng)用于在真實(shí)環(huán)境中發(fā)生目標(biāo)遮擋、目標(biāo)姿態(tài)及尺寸變化、光線變化情況下的目標(biāo)跟蹤,跟蹤目標(biāo)大小大于5×5像素,其特征在于:相關(guān)匹配跟蹤方法分為目標(biāo)模板尺寸變化準(zhǔn)則、目標(biāo)模板更新準(zhǔn)則兩個(gè)部分;
(1)目標(biāo)模板尺寸變化準(zhǔn)則方法流程:
根據(jù)前一幀原始模板按比例計(jì)算出放大模板和縮小模板,設(shè)置三種縮放比例的模板——原始模板、放大模板、縮小模板;
Step1.用設(shè)置好的三種模板與實(shí)時(shí)采集的當(dāng)前圖像進(jìn)行匹配,計(jì)算分別針對(duì)三種模板的匹配度c0、c1、c2,計(jì)算公式如下:
其中,K×L為模板大小,s(m+i,n+j)表示以(m,n)為當(dāng)前圖像中候選區(qū)域的左上角像素,t(i,j)為模板區(qū)域像素,μs、μt分別為當(dāng)前圖像候選區(qū)域灰度均值、目標(biāo)模板灰度均值;
Step2.當(dāng)c0、c1、c2的值相互間差的絕對(duì)值不超過(guò)設(shè)定的判定閾值時(shí),不更新模板,仍然使用原始模板;
當(dāng)c0、c1、c2的值相互間差的絕對(duì)值超過(guò)設(shè)定的判定閾值時(shí),取最大匹配度對(duì)應(yīng)的模板作為新的模板;
(2)目標(biāo)模板更新:
首先在當(dāng)前跟蹤窗內(nèi)從左上角開(kāi)始以1個(gè)像素為步長(zhǎng)選取和當(dāng)前模板等大小的區(qū)域,逐個(gè)與當(dāng)前模板進(jìn)行匹配,按照步驟(1)中的匹配度計(jì)算公式計(jì)算出每一個(gè)匹配度cn,選擇最大匹配度對(duì)應(yīng)的區(qū)域作為最佳匹配區(qū);然后設(shè)定第1幀以目標(biāo)區(qū)域作為當(dāng)前模板,之后每一幀通過(guò)下述公式計(jì)算得到更新的模板:
其中,tn是當(dāng)前模板內(nèi)容,tn+1是更新的模板內(nèi)容;cmax是步驟(1)中確定的目標(biāo)與模板的最大匹配度;bn是當(dāng)前跟蹤窗中的最佳匹配區(qū);τt為閾值;λ=0~0.3,為加權(quán)系數(shù);
通過(guò)上述兩個(gè)步驟控制每一幀定位目標(biāo)。
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