[發明專利]陣列基板及其制作方法、液晶面板和顯示裝置有效

申請號：	201210365899.8	申請日：	2012-09-27
公開（公告）號：	CN102879953A	公開（公告）日：	2013-01-16
發明（設計）人：	秦廣奎;鈴木照晃	申請（專利權）人：	京東方科技集團股份有限公司
主分類號：	G02F1/1337	分類號：	G02F1/1337
代理公司：	北京同達信恒知識產權代理有限公司 11291	代理人：	黃志華
地址：	100015 ***	國省代碼：	北京;11
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摘要：
搜索關鍵詞：	陣列及其制作方法液晶面板顯示裝置
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【說明書】：

技術領域

本發明涉及液晶顯示技術領域，尤其涉及一種半透半反式的像素陣列基板及其制作方法、以及采用這種半透半反式像素陣列的液晶面板和顯示裝置。

背景技術

液晶顯示器分為透射式顯示器、反射式顯示器和半透半反式顯示器。

透射式顯示器屏幕背面沒有反光鏡，靠背光提供光源，在弱光或無光下表現優秀。但是在戶外陽光下或強光環境下背光亮度嚴重不足，且單純依靠提高背光亮度，會急速損失電量，而且效果也非常不理想。

反射式顯示器屏幕背面有反光鏡，依賴外部光源達到顯示效果，因此在戶外及強光下反而會呈現更佳的效果及對比，但是反射式顯示器較難在高分辨率下達到高對比及高彩色品質的影像，尤其是全彩化的要求。而且當環境光源不足時，反射式顯示器的對比與亮度會大受折扣。

半透半反式顯示器同時采用了透射式和反射式的設計，同時具備背光源和反射層，因此在使用時既可以使用自身的背光源也可以利用外在的光源，從面無論在強光下或是昏暗處都能向使用者提供良好的觀看品質。

現有技術的半透半反顯示器設計中的像素結構，如圖1所示，由于在透射區100和反射區101存在高度差(透射區高于反射區)，因此，在摩擦方向1001上進行摩擦取向操作后，在透射區和反射區邊界處存在摩擦陰影102，造成此處的液晶取向不正常，從而導致漏光嚴重，對比度非常低；且透射區100和反射區101的邊界過長，會造成像素的有效利用區減少，還會降低顯示器的對比度。

發明內容

本發明的目的是提供一種半透半反式的像素陣列基板及其制作方法、液晶面板和顯示裝置，以解決現有技術中，由于對像素摩擦時透射區和反射區邊界形成摩擦陰影后該區域液晶取向異常，從而顯示器漏光嚴重；以及透射區和反射區的邊界過長，導致顯示器對比度低的問題。

本發明的目的是通過以下技術方案實現的：

本發明實施例還提供一種半透半反式的像素陣列基板，包括基板和所述基板上的多個像素，所述像素圖形包含透射區圖形和反射區圖形，所述像素具有一個摩擦方向，在每個所述像素的所述透射區與所述反射區的任一邊界處，所述摩擦方向平行于所述邊界；或者，沿著所述像素的摩擦方向看，從所述透射區向所述反射區為上升沿。

較佳的一實施例中，所述透射區與所述反射區的邊界為一條直線或兩條平行的直線。

較佳的一實施例中，所述反射區為一個等腰直角三角形、一個非等腰直角三角形、一個矩形、一個直角梯形、兩個等腰直角三角形其中一種。

較佳的一實施例中，所述摩擦方向為45°、135°、225°或315°。

本發明實施例還提供一種液晶面板，所述液晶面板包括如上所述的像素陣列基板。

本發明實施例還提供一種顯示裝置，所述液晶面板包括如上所述的液晶面板。

本發明實施例提供一種半透半反式的像素陣列基板的制作方法，步驟如下：提供一基板，在所述基板上規劃像素的分布及像素圖形，所述像素圖形包含透射區圖形和反射區圖形；

在所述像素上形成與所述透射區圖形和所述反射區圖形對應的透射區和反射區；

在每個所述像素的所述透射區與反射區的任一邊界處，選擇平行于所述邊界的方向為摩擦方向；或者，選擇沿著所述像素的摩擦方向看，從所述透射區向所述反射區為上升沿的方向為摩擦方向，對所述像素的所述透射區和所述反射區進行摩擦使所述像素具有摩擦取向。