[發明專利]光學薄膜用粘合劑層的制造方法、光學薄膜用粘合劑層、粘合型光學薄膜以及圖像顯示裝置

無效

• 申請號: 201210364698.6
• 申請日: 2012-09-26
• 公開（公告）號: CN103013362A
• 公開（公告）日: 2013-04-03
• 發明（設計）人: 下栗大器;乾州弘;高橋俊貴;卷幡陽介;細川敏嗣;石井孝證
• 申請（專利權）人: 日東電工株式會社
• 主分類號: C09J7/00
• 分類號: C09J7/00;C09J133/00;C09J133/08;C09J7/02;G02B1/10;G02B5/30
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;李茂家

1.一種光學薄膜用粘合劑層的制造方法，其特征在于，其為包括涂覆工序（1）以及干燥工序（2）的光學薄膜用粘合劑層的制造方法，所述涂覆工序（1）為將含有水分散液的水分散型粘合劑涂覆在脫模薄膜上的工序，所述水分散液含有水分散型的（甲基）丙烯酸系聚合物，所述干燥工序（2）為對所涂覆的水分散型粘合劑進行干燥的工序，其中，

所述水分散型粘合劑在剪切速度4000（1/s）下的粘度為0.01~0.1Pa·s，

在所述脫模薄膜上形成的所述光學薄膜用粘合劑層的表面的表面粗糙度（Ra）為10~40nm，并且，

所述光學薄膜用粘合劑層的厚度為23μm時的霧度值為1%以下。

2.根據權利要求1所述的光學薄膜用粘合劑層的制造方法，其特征在于，所述干燥工序（2）包括溫度40~110℃的第一干燥工序（21）、和溫度100~160℃的第二干燥工序（22）。

3.根據權利要求1或2所述的光學薄膜用粘合劑層的制造方法，其特征在于，所述水分散型粘合劑的（甲基）丙烯酸系聚合物的體積平均粒徑為180nm以下。

4.根據權利要求1~3中的任一項所述的光學薄膜用粘合劑層的制造方法，其特征在于，涂覆工序（1）的涂覆速度為10~100m/min。

5.根據權利要求1~4中的任一項所述的光學薄膜用粘合劑層的制造方法，其特征在于，所述水分散型粘合劑是固體成分濃度為5~45重量%的水分散液。

6.根據權利要求1~5中的任一項所述的光學薄膜用粘合劑層的制造方法，其特征在于，所述（甲基）丙烯酸系聚合物含有相對于總單體單元為60~99.9重量%的（甲基）丙烯酸烷基酯和0.1~10重量%的含羧基單體作為單體單元。

7.根據權利要求6所述的光學薄膜用粘合劑層的制造方法，其特征在于，所述（甲基）丙烯酸系聚合物還含有含磷酸基單體作為單體單元。

8.根據權利要求7所述的光學薄膜用粘合劑層的制造方法，其特征在于，所述含磷酸基單體的比率為（甲基）丙烯酸系聚合物的總單體單元的0.1~20重量%。

9.根據權利要求6~8中的任一項所述的光學薄膜用粘合劑層的制造方法，其特征在于，所述（甲基）丙烯酸系聚合物還含有含烷氧基甲硅烷基單體作為單體單元。

10.根據權利要求9所述的光學薄膜用粘合劑層的制造方法，其特征在于，所述含烷氧基甲硅烷基單體的比率為（甲基）丙烯酸系聚合物的總單體單元的0.001~1重量%。

11.根據權利要求6~10中的任一項所述的光學薄膜用粘合劑層的制造方法，其特征在于，60~99.9重量%的（甲基）丙烯酸烷基酯單體單元為60~99.8重量%的丙烯酸烷基酯單體單元和0.1~39.9重量%的甲基丙烯酸烷基酯單體單元。

12.根據權利要求11所述的光學薄膜用粘合劑層的制造方法，其特征在于，丙烯酸烷基酯為碳原子數3~9的丙烯酸烷基酯，甲基丙烯酸烷基酯為選自甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯和甲基丙烯酸環己酯中的至少一種物質。

13.一種光學薄膜用粘合劑層，其特征在于，其是通過權利要求1~12中的任一項所述的制造方法得到的光學薄膜用粘合劑層。

14.一種粘合型光學薄膜，其特征在于，在光學薄膜的至少一側層疊有權利要求1~13中的任一項所述的光學薄膜用粘合劑層。

15.一種圖像顯示裝置，其特征在于，其使用了至少一片權利要求14所述的粘合型光學薄膜。