[發明專利]一種基于β射線法的顆粒物差分濃度測量系統

無效

• 申請號: 201210363933.8
• 申請日: 2012-09-26
• 公開（公告）號: CN102866091A
• 公開（公告）日: 2013-01-09
• 發明（設計）人: 李虹杰;李金平;張培生;陳建新;李愷驊
• 申請（專利權）人: 武漢市天虹儀表有限責任公司
• 主分類號: G01N15/06
• 分類號: G01N15/06
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種基于β射線法的顆粒物差分濃度測量系統，其特征在于，包括至少兩根含塵氣流通道，分別為顆粒物去塵通道（1）以及顆粒物含塵通道（2）；所述顆粒物去塵通道（1）一端設有第一進氣管口（3），另一端設有第一濃度檢測部件（7）；所述顆粒物含塵通道（2）一端設有第二進氣管口（4），另一端設有第二濃度檢測部件（8）；所述顆粒物去塵通道（1）上還設有用于濾塵的顆粒物過濾裝置，第一進氣管口（3）以及第二進氣管口（4）均接有PM2.5切割器或PM1.0切割器。

2.根據權利要求1所述的一種基于β射線法的顆粒物差分濃度測量系統，其特征在于，所述的顆粒物去塵通道（1）包括上部含塵氣流通道（5）以及下部含塵氣流通道（6），上述第一進氣管口（3）設在上部含塵氣流通道（5）一端，所述上部含塵氣流通道（5）另一端通過上述顆粒物過濾裝置與所述下部含塵氣流通道（6）一端連通；上述第一濃度檢測部件（7）設置在所述下部含塵氣流通道（6）的另一端。

3.根據權利要求1所述的一種基于β射線法的顆粒物差分濃度測量系統，其特征在于，所述顆粒物過濾裝置包括一個內部設有濾膜（9）的顆粒物過濾器以及用于放置顆粒物過濾器并能開合的濾膜放置殼體，所述顆粒物過濾器內的濾膜濾徑為0.1μm～22μm。

4.根據權利要求1所述的一種基于β射線法的顆粒物差分濃度測量系統，其特征在于，還包括一具有溫度探頭（11）的控溫裝置（10），上述濾膜放置殼體設置在控溫裝置（10）內。

5.根據權利要求1所述的一種基于β射線法的顆粒物差分濃度測量系統，其特征在于，所述第一濃度檢測部件（7）和第二濃度檢測部件（8）均為β射線顆粒物濃度測量設備。