[發(fā)明專利]一種基于稀疏孔徑拼接的平面光學(xué)元件檢測方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210362668.1
• 申請日: 2012-09-26
• 公開（公告）號: CN102901462A
• 公開（公告）日: 2013-01-30
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 沈正祥;徐旭東;孫曉雁;王曉強(qiáng);馬彬;程鑫彬;王占山
• 申請（專利權(quán)）人: 同濟(jì)大學(xué)
• 主分類號: G01B11/24
• 分類號: G01B11/24
• 代理公司: 上海正旦專利代理有限公司 31200
• 代理人: 張磊

1.一種基于稀疏孔徑拼接的平面光學(xué)元件檢測方法，其特征在于采用平面光學(xué)元件檢測裝置進(jìn)行檢測，所述檢測裝置包括二維平移臺、干涉儀和標(biāo)準(zhǔn)平面透鏡，所述標(biāo)準(zhǔn)平面透鏡固定于干涉儀出瞳端，所述二維平移臺上放置有平面光學(xué)元件，所述干涉儀的出瞳正對平面光學(xué)元件，使平面光學(xué)元件平行于標(biāo)準(zhǔn)平面透鏡，以便測量干涉圖像，具體步驟如下：

(1)將所述平面光學(xué)元件固定在二維平移臺上，干涉儀對準(zhǔn)所述平面光學(xué)元件的位置；

(2)調(diào)節(jié)二維平移臺到達(dá)指定目標(biāo)分布區(qū)域，使干涉儀出瞳對準(zhǔn)平面光學(xué)元件的幾何中心部分，干涉儀對該幾何中心部分進(jìn)行采集測量計算，得到該子孔徑面型信息；

(3)在平面光學(xué)元件邊緣找出距離幾何中心點(diǎn)最遠(yuǎn)點(diǎn)，記該最遠(yuǎn)點(diǎn)與幾何中心點(diǎn)的連接線段為L；

(4)移動二維平移臺至新位置，使干涉儀出瞳中心對準(zhǔn)線段L，并使出瞳對準(zhǔn)的區(qū)域與步驟(2)所述測量區(qū)域有部分重疊，對該部分進(jìn)行采集計算，得到該子孔徑面型信息；

(5)重復(fù)步驟(4)，直到完成全部子孔徑的測量，即可實現(xiàn)所述平面光學(xué)元件的稀疏子孔徑測量；

其中：所述部分重疊區(qū)域的面積，由平面光學(xué)元件輪廓、尺寸與干涉儀出瞳尺寸決定。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢測方法，其特征在于所述二維平移臺采用XZ方向平移臺。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢測方法，其特征在于所述干涉儀采用菲索型干涉儀。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢測方法，其特征在于步驟(2)中移動二維平移臺到達(dá)指定目標(biāo)分布區(qū)域，利用小口徑干涉儀對所述平面光學(xué)元件的指定目標(biāo)分布區(qū)域，即子孔徑區(qū)域進(jìn)行逐個檢測。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢測方法，其特征在于子孔徑的分布方式采用X型分布。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢測方法，其特征在于所述平面光學(xué)元件為矩形，記兩條對角線分別為L₁與L₂；或所述平面光學(xué)元件為圓形，任選一條直徑為L₁，記與L₁相垂直的直徑為L₂，在L₁與L₂交點(diǎn)，即幾何中心處定位一個子孔徑，其余子孔徑中心分別對準(zhǔn)L₁與L₂中心，向邊緣延伸，直至子孔徑檢測超出所述平面光學(xué)元件范圍，其中子孔徑間的重疊面積為單一子孔徑面積的15%-30%。