[發(fā)明專利]處理裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210362334.4 | 申請日： | 2012-09-19 |
| 公開（公告）號： | CN103017918A | 公開（公告）日： | 2013-04-03 |
| 發(fā)明（設計）人： | 瀨尾健二 | 申請（專利權）人： | 株式會社川田 |
| 主分類號： | G01K1/14 | 分類號： | G01K1/14;G01K1/00 |
| 代理公司： | 上海天翔知識產(chǎn)權代理有限公司 31224 | 代理人： | 劉粉寶 |
| 地址： | 日本國*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 處理 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種處理裝置，其特征在于，具備
貯存被處理物體的容器、
測量所述容器內貯存的被處理物體溫度的傳感器、以及
使所述傳感器相對于所述容器可移動的移動結構。
2.權利要求1所述的處理裝置，其特征在于，
還具備控制所述移動結構動作的控制手段，
所述控制手段在所述被處理物體的處理過程中可控制所述移動結構，使所述傳感器相對于所述容器移動。
3.權利要求1或2所述的處理裝置，其特征在于，
所述容器的壁上開設插通所述傳感器的插通孔，
所述傳感器，可以從所述插通孔進入接近所述容器內所述壁的內表面更內側的進入位置，和不進入所述壁的內表面更內側而向所述插通孔退避的退避位置之間移動。
4.權利要求3所述的處理裝置，其特征在于，
所述容器的壁的所述插通孔的內周面，與所述傳感器的外周面保持著在所述傳感器向所述退避位置移動時能夠限制附著于所述傳感器的被處理物體進入所述插通孔的間隔對置。
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