[發明專利]一種具有微流道結構的金屬間化合物及其制造方法有效
| 申請號： | 201210361502.8 | 申請日： | 2012-09-25 |
| 公開（公告）號： | CN102921361A | 公開（公告）日： | 2013-02-13 |
| 發明（設計）人： | 沈明禮;朱圣龍;王福會;吳維 | 申請（專利權）人： | 中國科學院金屬研究所 |
| 主分類號： | B01J19/00 | 分類號： | B01J19/00 |
| 代理公司： | 沈陽晨創科技專利代理有限責任公司 21001 | 代理人： | 樊南星 |
| 地址： | 110015 遼*** | 國省代碼： | 遼寧;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 具有 微流道 結構 金屬 化合物 及其 制造 方法 | ||
1.一種具有微流道結構的金屬間化合物，其特征在于：所述金屬間化合物微流道的合金相為下述金屬間化合物中的一種或多種：Fe-Al、Co-Al、Ni-Al、Ti-Al和Nb-Al；
所述金屬間化合物微流道的骨架是具有所需空間結構的鋁絲構件；在該鋁絲構件上還沉積有一層金屬M，M=Fe、Co、Ni、Ti、Nb其中之一或其組合；上述已經沉積金屬M的鋁絲構件埋入下述三種材料制成的構件中并在真空、惰性或還原性氣氛中采用無壓或壓力燒結得到最終的具有微流道結構的金屬間化合物。
2.按照權利要求1所述具有微流道結構的金屬間化合物，其特征在于：所述金屬間化合物微流道的骨架中，鋁絲斷面形狀包括但不限于圓形，其外徑為100nm-2mm，其化學成份為純鋁或鋁合金。
3.具有微流道結構的金屬間化合物的制造方法，其特征在于：
首先將具有所需空間結構的鋁絲構件作為基礎骨架；然后在該鋁絲構件上還沉積有一層金屬M，M=Fe、Co、Ni、Ti、Nb其中之一或其組合；再在上述已經沉積金屬M的鋁絲構件埋入下述三種材料制成的構件中并在真空、惰性或還原性氣氛中采用無壓或壓力燒結得到最終的金屬間化合物微流道；燒結溫度要求是600-1200°C，時間>0.5分鐘。
4.權利要求3所述具有微流道結構的金屬間化合物的制造方法，其特征在于：
在鋁絲構件上沉積金屬層M的沉積方法具體是以下幾種之一：電鍍、化學鍍、PVD法、CVD方法；沉積的金屬層M厚度為鋁絲外徑的1/2-1/20。
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