[發明專利]一種反射式體全息布拉格光柵紫外曝光的方法

有效

• 申請號: 201210360192.8
• 申請日: 2012-09-25
• 公開（公告）號: CN102902002A
• 公開（公告）日: 2013-01-30
• 發明（設計）人: 劉崇;葉志斌;葛劍虹;項震
• 申請（專利權）人: 浙江大學
• 主分類號: G02B5/18
• 分類號: G02B5/18;G03F7/20
• 代理公司: 杭州求是專利事務所有限公司 33200
• 代理人: 張法高

1.一種反射式體全息布拉格光柵紫外曝光的方法，其特征在于包括以下步驟：

（1）將待曝光的光柵材料（3）的表面進行拋光，使光柵入射面（4）和光柵出射面（5）的表面粗糙度達到R_a?<?0.01μm，R_a為輪廓算術平均偏差，光柵入射面（4）與光柵出射面（5）平行或者光柵入射面（4）與光柵出射面（5）之間的夾角β為1～20度；

（2）在光柵出射面（5）上鍍有紫外光波段反射率大于90%的高反射膜；

（3）用一束平行的紫外光（1）從光柵入射面（4）照射光柵材料（3），紫外光（1）入射至光柵材料（3）內部后到達光柵出射面（5），被光柵出射面（5）上的高反射膜反射，反射的紫外光（2）在光柵材料（3）內部和入射的紫外光（1）進行干涉，從而形成了強度周期性變化的干涉條紋（6）；

（4）干涉條紋（6）周期Λ?=?λ?/?(2?n?sinα)，其中，λ為入射紫外光的波長，n為光柵材料的折射率，α為光柵材料（3）內入射的紫外光（1）和光柵出射面（5）的夾角；

（5）保持入射的紫外光（1）和光柵材料（3）的位置，使干涉條紋（6）在光柵材料（3）內部保持5分鐘至1小時，光柵材料（3）的特性發生了周期性變化，體全息布拉格光柵的周期和干涉條紋的周期一致，至此紫外曝光過程結束。

2.如權利要求1所述的一種反射式體全息布拉格光柵紫外曝光的方法，其特征在于所述的光柵材料（3）為光熱折變PTR玻璃或光折變晶體。

3.如權利要求1所述的一種反射式體全息布拉格光柵紫外曝光的方法，其特征在于所述的紫外光波段反射率大于90%的高反射膜為介質膜或金屬膜。

4.如權利要求3所述的一種反射式體全息布拉格光柵紫外曝光的方法，其特征在于所述的介質膜的材料為氧化鉿，金屬膜的材料為鋁。