[發明專利]一種提高大功率激光二極管列陣輸出光束質量的裝置及其方法無效
| 申請號: | 201210360162.7 | 申請日: | 2012-09-25 |
| 公開(公告)號: | CN102904160A | 公開(公告)日: | 2013-01-30 |
| 發明(設計)人: | 劉崇;亓云軒;葛劍虹;項震 | 申請(專利權)人: | 浙江大學 |
| 主分類號: | H01S5/40 | 分類號: | H01S5/40;H01S5/125 |
| 代理公司: | 杭州求是專利事務所有限公司 33200 | 代理人: | 張法高 |
| 地址: | 310027 浙*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 提高 大功率 激光二極管 列陣 輸出 光束 質量 裝置 及其 方法 | ||
1.一種提高大功率激光二極管列陣輸出光束質量的裝置,其特征在于在同一光軸上依次垂直放置激光二極管列陣(1)、快軸準直透鏡(2)和體全息布拉格光柵(3);快軸準直透鏡(2)與激光二極管列陣(1)前端面之間的距離L1=f,f為快軸準直透鏡(2)的焦距,體全息布拉格光柵(3)與激光二極管列陣(1)前端面之間的距離????????????????????????????????????????????????,體全息布拉格光柵(3)的光柵波矢與光軸之間的夾角α?=?λ?/(2d),λ為輸出激光波長,d為激光二極管列陣發光單元周期,激光器二極管列陣(1)前端面鍍有反射率小于0.5%的反射膜,激光器二極管列陣(1)后端面鍍有反射率大于99.5%的反射膜。
2.如權利要求1所述的一種提高大功率激光二極管列陣輸出光束質量的裝置,其特征在于所述的反射膜的材料為氧化鋯或氧化硅。
3.如權利要求1所述的一種提高大功率激光二極管列陣輸出光束質量的裝置,其特征在于所述的激光器二極管列陣(1)的輸出功率為5W~300W,發光單元數為9個~99個,發光單元周期為10μm~500μm。
4.如權利要求1所述的一種提高大功率激光二極管列陣輸出光束質量的裝置,其特征在于所述的快軸準直透鏡(2)為平凸柱面透鏡,兩端面鍍有反射率小于0.5%的減反射膜,快軸準直透鏡(2)的焦距為0.05mm~5mm。
5.如權利要求1所述的一種提高大功率激光二極管列陣輸出光束質量的裝置,其特征在于所述的體全息布拉格光柵(3)為反射式體全息布拉格光柵,反射率為5%~80%,反射的光譜帶寬為0.01nm~2nm,光柵厚度0.2mm~5mm。
6.一種使用如權利要求1所述裝置的提高大功率激光二極管列陣輸出光束質量的方法,其特征在于包括以下步驟:
(1)在光軸上垂直放置激光二極管列陣(1)、快軸準直透鏡(2)、體全息布拉格光柵(3);
(2)調整快軸準直透鏡(2)與激光二極管列陣(1)前端面之間的距離L1,同時觀測輸出激光在快軸方向的發散角,當發散角小于0.2度時,快軸準直透鏡(2)與激光二極管列陣(1)前端面之間的距離L1=f,f為快軸準直透鏡(2)的焦距;
(3)旋轉體全息布拉格光柵(3),同時觀測輸出激光在慢軸方向的發散角,當發散角小于1度時,體全息布拉格光柵(3)的光柵波矢與光軸之間的夾角α?=?λ?/(2d),λ為輸出激光波長,d為激光二極管列陣發光單元周期;
(4)調整體全息布拉格光柵(3)與激光二極管列陣(1)前端面之間的距離L2,同時觀測輸出激光的光束質量,當光束質量因子M2小于10時,體全息布拉格光柵(3)與激光二極管列陣(1)前端面之間的距離,達到提高大功率激光二極管列陣輸出光束質量的目的。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于浙江大學,未經浙江大學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201210360162.7/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種帶重啟頂針的DEL按壓工具
- 下一篇:一種可信安全仿真計算機





