[發明專利]適用于尖后緣機翼的等離子體環量控制方法

有效

• 申請號: 201210359729.9
• 申請日: 2012-09-24
• 公開（公告）號: CN102887223A
• 公開（公告）日: 2013-01-23
• 發明（設計）人: 馮立好;王晉軍;劉亞光;史濤瑜;崔宏昭
• 申請（專利權）人: 北京航空航天大學
• 主分類號: B64C21/00
• 分類號: B64C21/00
• 代理公司: 北京永創新實專利事務所 11121
• 代理人: 周長琪

1.一種適用于尖后緣機翼的等離子環量控制方法，其特征在于：在機翼靠近后緣處壓力面和吸力面，各貼附一個等離子體激勵器，或者各貼附兩個以上的等離子體激勵器，等離子體激勵器不重疊；等離子體激勵器包括：裸露電極、覆蓋電極以及絕緣介質，絕緣介質位于兩電極之間，覆蓋電極所處位置與裸露電極所處位置不重疊，裸露電極和覆蓋電極之間施加高壓高頻正弦交流電源；

布置在壓力面的每個等離子體激勵器：該等離子體激勵器的裸露電極靠近機翼后緣，覆蓋電極位于裸露電極上游；布置在吸力面的每個等離子體激勵器：該等離子體激勵器的覆蓋電極靠近機翼后緣，裸露電極位于覆蓋電極的上游。

2.根據權利要求1所述的等離子環量控制方法，其特征在于：所述的每個等離子體激勵器，施加在其裸露電極和覆蓋電極之間的正弦交流電壓的峰峰值至少1千伏，頻率至少1千赫茲。

3.根據權利要求1所述的等離子環量控制方法，其特征在于：所述的裸露電極和覆蓋電極采用具有導電性能的金屬材料制作，所述的絕緣介質5采用柔性的聚酯薄膜制作。

4.根據權利要求1所述的等離子環量控制方法，其特征在于：所述的每個等離子體激勵器，其裸露電極與覆蓋電極的靠近端的距離為0毫米到8毫米。

5.根據權利要求1所述的等離子環量控制方法，其特征在于：所述的每個等離子體激勵器，其裸露電極及覆蓋電極的寬度范圍均為所控制機翼弦長的2%到10%，且裸露電極的寬度小于覆蓋電極的寬度。

6.根據權利要求1或5所述的等離子環量控制方法，其特征在于：所述的絕緣介質的寬度至少等于裸露電極、覆蓋電極以及兩個電極之間的間隙之和。

7.根據權利要求6所述的等離子環量控制方法，其特征在于：所述的絕緣介質的寬度至少在裸露電極以及覆蓋電極的外側端分別延伸1毫米到2毫米。

8.根據權利要求1所述的等離子環量控制方法，其特征在于：所述的每個等離子體激勵器，其裸露電極和覆蓋電極的厚度不超過15微米，絕緣介質的厚度不超過250微米。