[發明專利]氣體端面密封抗干擾裝置及抗干擾方法

有效

• 申請號: 201210359053.3
• 申請日: 2012-09-24
• 公開（公告）號: CN102853085A
• 公開（公告）日: 2013-01-02
• 發明（設計）人: 蔡紀寧;李雙喜;張樹強;張秋翔;陳國軍
• 申請（專利權）人: 北京化工大學
• 主分類號: F16J15/34
• 分類號: F16J15/34;F16J15/40
• 代理公司: 北京思海天達知識產權代理有限公司 11203
• 代理人: 張慧

1.氣體端面密封抗干擾裝置，包括與轉軸(1)一起旋轉的密封動環(4)、靜止的密封靜環(5)、薄膜節流器(13)以及氣體供給裝置(14)，密封動環(4)安裝在軸套(2)上且被動環壓蓋(8)壓緊，密封動環(4)和軸套(2)之間安裝有防轉銷(3)；密封靜環(5)安裝在靜環座(7)上，密封靜環(5)和靜環座(7)之間安裝有壓縮彈簧(6)；密封裝置的輔助密封由密封圈(9)、密封圈(10)、密封圈(11)以及密封圈(12)提供；其特征在于：所述的密封靜環(5)上加工有周向均布互不連通的氣體供給通道(a₄)，徑向相對的每一組氣體供給通道(a₄)通過氣體供給通道(a₃)分別和薄膜節流器(13)中的薄膜(15)兩側的氣體供給通道(a₂)相連通。

2.根據權利要求1所述的氣體端面密封抗干擾裝置，其特征在于：徑向相對的每一組氣體供給通道(a₄)，對稱布置，分別和薄膜節流器(13)中的薄膜(15)兩側的氣體供給通道(a₂)相連通。

3.根據權利要求1或2所述的氣體端面密封抗干擾裝置，其特征在于：所述的薄膜節流器(13)的數量為n，周向均布互不連通的氣體供給通道(a₄)的數量為2n，n=1-20個。

4.利用權利要求1-2所述的任一氣體端面密封抗干擾裝置的抗干擾方法，其特征在于：氣體供給裝置(14)提供的氣體，通過氣體供給通道(a₁)輸送到薄膜節流器(13)中，氣體被節流后，依次通過氣體供給通道(a₂)、氣體供給通道(a₃)以及氣體供給通道(a₄)輸送到密封動環(4)和密封靜環(5)的端面之間；氣體端面密封處于正常工作狀態時，薄膜節流器(13)中的薄膜(15)兩側壓力相等，薄膜不產生彎曲變形；當外界干擾引起密封靜環(5)發生角向偏轉時，薄膜節流器(13)中的薄膜(15)兩側就會產生壓差，壓差將導致薄膜(15)產生彎曲變形，薄膜產生的彎曲變形將改變薄膜兩側氣體供給通道（a₂）中的氣體流動阻力，使一端氣體流動阻力增加，另一端氣體流動阻力減小，這將減小密封靜環(5)的角向偏轉，使密封恢復到正常運轉狀態；根據密封靜環(5)角向偏轉的大小，薄膜節流器(13)自適應地提供抗干擾能力。