[發明專利]一種具有紫外線阻擋和表面自清潔作用的氧化鈦薄膜無效
| 申請號: | 201210358972.9 | 申請日: | 2012-09-25 |
| 公開(公告)號: | CN102867652A | 公開(公告)日: | 2013-01-09 |
| 發明(設計)人: | 楊希川 | 申請(專利權)人: | 大連七色光太陽能科技開發有限公司 |
| 主分類號: | H01G9/20 | 分類號: | H01G9/20;H01G9/042 |
| 代理公司: | 大連星海專利事務所 21208 | 代理人: | 徐淑東 |
| 地址: | 116021 遼寧省大連市高*** | 國省代碼: | 遼寧;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 具有 紫外線 阻擋 表面 清潔 作用 氧化 薄膜 | ||
1.一種具有紫外線阻擋和表面自清潔作用的氧化鈦薄膜,其特征在于:在染料敏化太陽能電池的受光面上制備一層具有紫外線阻擋、可見光增透和表面自清潔作用的TiO2薄膜。
2.根據權利要求1所述一種具有紫外線阻擋和表面自清潔作用的氧化鈦薄膜,其特征在于:所述TiO2薄膜的制備方法為:物理氣相沉積法、化學沉淀法、溶膠凝膠法、電沉積法、薄膜組裝法或者噴霧熱解法;所述物理氣相沉積法包括:蒸發法、磁控射頻濺射法或分子束外延法;所述化學氣相沉積法包括:大氣壓氣相沉積法、低氣壓氣相沉積法;所述溶膠-凝膠法包括:旋涂法、浸涂法、滴涂法、噴涂法、甩膜法、提拉法;所述電沉積法包括:陽極電沉積法、陰極電沉積法、電泳法;所述薄膜組裝法包括:LB膜技術、軟刻技術、自組裝技術、靜電組裝技術、模板組裝技術。
3.根據權利要求1所述一種具有紫外線阻擋和表面自清潔作用的氧化鈦薄膜,其特征在于:所述TiO2薄膜的厚度為10?nm~800?nm。
4.根據權利要求2所述一種具有紫外線阻擋和表面自清潔作用的氧化鈦薄膜,其特征在于:采用所述溶膠凝膠法制備TiO2薄膜時,所用鈦溶膠混合了多種組分,包括鈦化合物、溶膠穩定劑和醇溶劑,三者組分的體積比為:1:1:3~1:1:5;在其中加入絡合添加劑和氧化劑,絡合添加劑與鈦化合物的體積比為1%~5%;氧化劑與鈦化合物的體積比為1~10。
5.根據權利要求4所述一種具有紫外線阻擋和表面自清潔作用的氧化鈦薄膜,其特征在于:所述鈦化合物為四氯化鈦、鈦酸丁酯、鈦酸乙酯、鈦酸異丙酯中的一種或多種。
6.根據權利要求4所述一種具有紫外線阻擋和表面自清潔作用的氧化鈦薄膜,其特征在于:所述溶膠穩定劑為乙酰丙酮、乙二胺、檸檬酸、乙酸、鹽酸、硝酸、硫酸中的一種或多種。
7.根據權利要求4所述一種具有紫外線阻擋和表面自清潔作用的氧化鈦薄膜,其特征在于:所述醇溶劑為甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、異丙醇、叔丁醇中的一種或多種。
8.根據權利要求4所述一種具有紫外線阻擋和表面自清潔作用的氧化鈦薄膜,其特征在于:所述絡合添加劑為硼酸、磷酸、鎢酸中的一種或多種。
9.根據權利要求4所述一種具有紫外線阻擋和表面自清潔作用的氧化鈦薄膜,其特征在于:所述氧化劑為高氯酸、次氯酸、過氧化氫、高氯酸鉀、濃硫酸、高錳酸鉀、硝酸中的一種或幾種。
10.根據權利要求2所述一種具有紫外線阻擋和表面自清潔作用的氧化鈦薄膜,其特征在于:采用所述化學氣相沉積法制備TiO2薄膜時,導電玻璃襯底的加熱溫度為300~650?°C,反應器內的反應溫度為100~200?°C,襯底的運行速率為5~200?mm/s。
11.根據權利要求2所述一種具有紫外線阻擋和表面自清潔作用的氧化鈦薄膜,其特征在于:采用所述磁控射頻濺射方法制備TiO2薄膜,控制TiO2薄膜厚度為10?nm~800?nm。
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