[發(fā)明專利]一種壓接式IGBT模塊的制作方法及壓接式IGBT模塊有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210355762.4 | 申請日: | 2012-09-24 |
| 公開(公告)號: | CN102881589A | 公開(公告)日: | 2013-01-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 劉國友;覃榮震;黃建偉 | 申請(專利權(quán))人: | 株洲南車時代電氣股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/331 | 分類號: | H01L21/331;H01L21/58;H01L29/739;H01L23/495 |
| 代理公司: | 湖南兆弘專利事務(wù)所 43008 | 代理人: | 趙洪;周長清 |
| 地址: | 412001 湖南*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 壓接式 igbt 模塊 制作方法 | ||
1.一種壓接式IGBT模塊的制作方法,其特征在于,步驟為:
①?在IGBT模塊的封裝時,先將底部鉬片(1)放置在一燒結(jié)基座(7)中,并將一個輔助夾具(6)放置于底部鉬片(1)上,接著將多個功率半導(dǎo)體芯片(2)放置于底部鉬片(1)上;其中底部鉬片(1)為一整塊鉬片;所述功率半導(dǎo)體芯片(2)包括FRD芯片(21)和IGBT芯片(22),所述IGBT芯片(22)與FRD芯片(21)呈反并聯(lián)設(shè)置;
②?通過燒結(jié)將功率半導(dǎo)體芯片(2)固定在底部鉬片(1)上,再將輔助夾具(6)及燒結(jié)基座(7)取掉;即,通過底部鉬片(1)將IGBT芯片集電極(223)與FRD芯片(21)背面的陰極(212)相連,并作為IGBT模塊的集電極;
③?安裝PCB?(3);?
④?利用PCB?(3)作為上部鉬片(4)的定位工具將多個上部鉬片(4)固定;
⑤?進(jìn)行管殼的壓接:通過壓接時外殼的管蓋(80)與上部鉬片(4)的接觸實(shí)現(xiàn)IGBT芯片發(fā)射極(222)和FRD芯片(21)的陽極(211)互連,并作為IGBT模塊的發(fā)射極;通過壓接時外殼的底座(81)與底部鉬片(1)的接觸實(shí)現(xiàn)了IGBT芯片集電極(223)和FRD芯片(21)的陰極(212)互連,并作為IGBT模塊的集電極;通過壓接時PCB(3)的各接觸電極與IGBT芯片柵極(221)的接觸實(shí)現(xiàn)IGBT芯片柵極(221)互連并引出至IGBT模塊的外部,作為IGBT模塊的柵極(82)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的壓接式IGBT模塊的制作方法,其特征在于,還將多個金屬片(5)放置于底部鉬片(1)上,通過與功率半導(dǎo)體芯片(2)一起燒結(jié)固定于底部鉬片(1)上,以形成用來固定PCB(3)的定位部。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的壓接式IGBT模塊的制作方法,其特征在于,所述金屬片(5)的厚度大于所述功率半導(dǎo)體芯片(2)的厚度,所述金屬片(5)的厚度小于功率半導(dǎo)體芯片(2)與PCB(3)的厚度之和。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的壓接式IGBT模塊的制作方法,其特征在于,在所述PCB(3)的下表面設(shè)置用來定位和連接的定位口(34)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1~4中任意一項(xiàng)所述的壓接式IGBT模塊的制作方法,其特征在于,所述IGBT芯片(22)背面的IGBT芯片集電極(223)與所述FRD芯片(21)背面的陰極(212)通過燒結(jié)固定在底部鉬片(1)上,所述IGBT芯片(22)和FRD芯片(21)的設(shè)置為關(guān)于底部鉬片(1)的中心對稱,并將IGBT芯片(22)設(shè)置為兩兩柵極相鄰,或設(shè)置為每三個IGBT芯片柵極(221)相鄰。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的壓接式IGBT模塊的制作方法,其特征在于,所述PCB(3)的下表面與IGBT芯片柵極(221)接觸的地方設(shè)有連接端子(31),所述連接端子(31)將IGBT芯片柵極(221)引出至PCB(3)的互連導(dǎo)體(32)上進(jìn)行互連,然后引出至模塊的外部。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的壓接式IGBT模塊的制作方法,其特征在于,所述PCB(3)設(shè)置有很多窗口(35),所述窗口(35)的形狀和大小與IGBT芯片(22)及FRD芯片(21)的元胞區(qū)內(nèi)的表面金屬化部分的形狀與大小相同。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的壓接式IGBT模塊的制作方法,其特征在于,所述上部鉬片(4)為多塊小片鉬片,所述鉬片的厚度與PCB(3)的厚度相同,所述鉬片的面積和形狀與IGBT芯片發(fā)射極(222)或FRD芯片(21)的陽極(211)的面積及形狀相同。
9.根據(jù)權(quán)利要求1~4中任意一項(xiàng)所述的壓接式IGBT模塊的制作方法,其特征在于,所述管蓋(80)與底座(81)之間通過陶瓷環(huán)(84)隔離。
10.一種壓接式IGBT模塊,其特征在于:它包括底部鉬片(1)、功率半導(dǎo)體芯片(2)、PCB(3)和上部鉬片(4),所述底部鉬片(1)為一整塊鉬片并為功率半導(dǎo)體芯片(2)提供電流和散熱通路,所述功率半導(dǎo)體芯片(2)通過燒結(jié)固定于底部鉬片(1)上,所述PCB(3)位于功率半導(dǎo)體芯片(2)的上方并通過定位與底部鉬片(1)連接,所述上部鉬片(4)通過PCB(3)定位固定。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于株洲南車時代電氣股份有限公司,未經(jīng)株洲南車時代電氣股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201210355762.4/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





