[發明專利]沉積成膜裝置中所使用的晶圓固定裝置

有效

• 申請號: 201210354063.8
• 申請日: 2012-09-21
• 公開（公告）號: CN103668101A
• 公開（公告）日: 2014-03-26
• 發明（設計）人: 吉金林;樂天貴;陸雁華
• 申請（專利權）人: 無錫華潤華晶微電子有限公司
• 主分類號: C23C14/50
• 分類號: C23C14/50;C23C16/458
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 唐立;王忠忠

1.一種沉積成膜裝置中所使用的晶圓固定裝置，其特在于，包括：

定位環，

壓片環，和

用于壓片環彈性地固定在所述定位環上的彈性固定部件；

其中，在所述壓片環的相向于所述晶圓的表面上設置有多個壓片點，所述壓片點作用于所述晶圓的上表面以使其相對沉積成膜裝置的內腔的工作臺固定。

2.?如權利要求1所述的晶圓固定裝置，其特在于，所述定位環的內圓孔的直徑大于所述晶圓的直徑，所述壓片環的外徑小于所述定位環的內圓孔的直徑，所述壓片環對應于所述定位環的內圓孔彈性地固定。

3.?如權利要求1所述的晶圓固定裝置，其特在于，所述壓片環隨所述定位環相對所述工作臺可操作地上下運動。

4.?如權利要求3所述的晶圓固定裝置，其特在于，所述定位環上設置有頂桿孔，通過頂桿作用于所述頂桿孔上，使所述晶圓固定裝置相對于所述工作臺可操作地上下運動。

5.?如權利要求1所述的晶圓固定裝置，其特在于，所述壓片環相對所述定位環在上下左右方向上均具有一定偏移量。

6.?如權利要求1所述的晶圓固定裝置，其特在于，所述彈性固定部件為彈簧夾。

7.?如權利要求1所述的晶圓固定裝置，其特在于，所述壓片點為半圓球形。

8.?如權利要求1所述的晶圓固定裝置，其特在于，所述壓片點作用于所述晶圓的上表面的邊沿部分。

9.?如權利要求1所述的晶圓固定裝置，其特在于，所述沉積成膜裝置為磁控濺射裝置。

10.?如權利要求1所述的晶圓固定裝置，其特在于，所述晶圓固定裝置在沉積形成鋁金屬薄膜過程中被使用。