[發(fā)明專利]腔壁溫度可由生長程序?qū)崟r設(shè)置的氣相外延反應(yīng)管

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210353647.3
• 申請日: 2012-09-21
• 公開（公告）號: CN103668115A
• 公開（公告）日: 2014-03-26
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 江風(fēng)益;劉軍林;方文卿;蒲勇;徐龍權(quán)
• 申請（專利權(quán)）人: 南昌黃綠照明有限公司
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455;C30B25/14
• 代理公司: 江西省專利事務(wù)所 36100
• 代理人: 張文

1.一種腔壁溫度可由生長程序?qū)崟r設(shè)置的氣相外延反應(yīng)管，包括反應(yīng)室和控制系統(tǒng)，在反應(yīng)室內(nèi)安裝有MOCVD加熱器，在MOCVD加熱器的上面依次從下至上安裝有石墨襯底基座和外延襯底，MOCVD加熱器對石墨基座進(jìn)行加熱控溫，石墨基座對外延襯底進(jìn)行加熱，在反應(yīng)室內(nèi)、外延襯底的上方安裝有正對外延襯底且與外延襯底間隔放置的MOCVD噴頭，在反應(yīng)室的頂板中間設(shè)有一個進(jìn)氣孔，在反應(yīng)室的底板兩邊各設(shè)有一個排氣孔，特征是：在反應(yīng)室內(nèi)壁的頂部、四周側(cè)壁上設(shè)有封閉的循環(huán)介質(zhì)通道，在反應(yīng)室的左側(cè)壁和右側(cè)壁上分別設(shè)有反應(yīng)室循環(huán)介質(zhì)入口和反應(yīng)室循環(huán)介質(zhì)出口，反應(yīng)室循環(huán)介質(zhì)入口將循環(huán)介質(zhì)通道和恒溫機(jī)的恒溫機(jī)循環(huán)介質(zhì)出口連接在一起，反應(yīng)室循環(huán)介質(zhì)出口將循環(huán)介質(zhì)通道和恒溫機(jī)的恒溫機(jī)循環(huán)介質(zhì)入口連接在一起，使得循環(huán)介質(zhì)在反應(yīng)室的循環(huán)介質(zhì)通道和恒溫機(jī)之間循環(huán)流通；反應(yīng)室和恒溫機(jī)受控制系統(tǒng)控制。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的腔壁溫度可由生長程序?qū)崟r設(shè)置的氣相外延反應(yīng)管，其特征在于：循環(huán)介質(zhì)為導(dǎo)熱油、水或鈉液體中的一種，循環(huán)介質(zhì)的溫度在20-600℃。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的腔壁溫度可由生長程序?qū)崟r設(shè)置的氣相外延反應(yīng)管，其特征在于：導(dǎo)熱油的溫度為20-350℃，液態(tài)鈉的溫度為100--600℃。