[發明專利]間歇式微波光催化廢水降解裝置綜合性能提高方法無效
| 申請號: | 201210353095.6 | 申請日: | 2012-09-11 |
| 公開(公告)號: | CN102849822A | 公開(公告)日: | 2013-01-02 |
| 發明(設計)人: | 李榕生;李天華;任元龍;干寧;孔祖萍;江晶;孫杰;周漢坤;覃海嬌 | 申請(專利權)人: | 寧波大學 |
| 主分類號: | C02F1/32 | 分類號: | C02F1/32;C02F1/78 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 間歇 式微 波光 催化 廢水 降解 裝置 綜合 性能 提高 方法 | ||
技術領域
本發明涉及一種間歇式微波光催化廢水降解裝置綜合性能提高方法,屬于C02F廢水處理技術領域。
背景技術
微波光催化降解處理技術,作為一種有效的針對含有機污染物工業廢水的無害化處理技術,近年來發展迅猛。
關于微波光催化降解技術,作為一例,可以參見公開號為CN102260003A的中國專利申請案。
該公開號為CN102260003A的中國專利申請案,是以微波作為激發源,激發無極紫外燈發射紫外線,于液體內部照射摻有光催化劑二氧化鈦的懸濁液,該無極紫外燈被石英管所籠罩保護著,有空氣泵向該石英管內腔持續注入空氣,由石英腔溢出的空氣經由管道與位于反應器底部的微孔曝氣頭聯通,該反應器內部的下方區域為曝氣區,該反應器內部的上方區域是微波光催化反應區,該方案還以反應器內置的膜分離組件,來提析凈化后的水,并以該膜分離組件實現光催化劑二氧化鈦微粒的截留再用;該方案還在無極紫外光源與膜分離組件之間架設隔板,用于防止紫外線對有機質的膜分離組件的輻射損傷;通入反應器內部的空氣,部分直接參與依托光催化劑二氧化鈦的光催化降解反應,還有一部分空氣,在紫外光的直接照射下,生成一定量的臭氧,該生成的臭氧當然也發揮著針對有機污染物的直接的氧化降解作用。
該公開號為CN102260003A的中國專利申請案毫無疑問為微波光催化廢水降解技術的進步起到了不可忽視的推動作用,其研發人員在該領域所展開的工作令人敬佩。
基于敬佩之意,以及,共同的努力方向,我們下面要談的是問題。
我們知道,液態水體其本身也能夠吸收微波的能量,并導致被處理的液態水體其本身的溫升效應,而這種伴隨廢水處理過程而出現的溫升效應,卻不是我們所期待的情形,換句話說,來自磁控管的微波能量沒有完全被用于激發無極紫外燈,而有相當一部分本應只用于激發無極紫外燈的微波能量被耗散于所述的溫升效應,該種不受待見的溫升效應造成了不必要的微波能量浪費,鑒于上述公開號為CN102260003A的中國專利申請案所展示的裝置結構方案,其合理的途徑,只能是通過減少微波光催化反應器的體積或者說減少單罐處理容量來來達成弱化微波多余耗散的目的,關于這一點,在該CN102260003A申請案其具體實施方式中清晰表達了關于該裝置結構整體的適宜尺寸,其所表達的優選尺寸對應的就是一個外形很小的裝置,那么,如此一來,反應器內壁與微波輻射源的距離小了,與微波接觸的廢水量小了,廢水所吸收的微波能量相對也小了,與之相對應地,單罐的廢水處理量因此也小了,更具體地說,其實施例中所表達的裝置適宜尺寸所對應的內部容積是40升,也即單罐廢水處理量是40升,即0.04立方,換句話說,其一次全套、全程操作只解決了0.04立方的工業廢水,那么,就需要進行很多次的由首至尾的全套操作的重復,其處理量的累加才具有工業規模的意義,打個比方說,只是個大致的比方,該案其優選結構尺寸大致對應的單罐0.04立方這樣的廢水處理量,需要重復1000次的由首至尾的全套、全程操作,其累加量,才能達到40立方這樣一個具有工業水平的的廢水處理量,如此過度繁瑣的重復操作將導致人力、物力的嚴重浪費,可見,該種由CN102260003A所展示的方案其實際的廢水降解處理效率可能不能盡如人意。因此,如何在不造成更多微波能量浪費或減少微波能量浪費的前提下,增加單罐廢水處理量,減少該間歇式廢水處理裝置的不必要的太多的由首至尾的重復操作次數,提高其廢水處理效率,是一個有意義的值得關注的技術問題。
另一方面,在該公開號為CN102260003A的中國專利申請案所表達的裝置結構中,用于屏護無極紫外燈的石英管,其外壁,指的是石英管的外壁,經長時間的與被處理工業廢水的接觸,難免逐漸積垢,垢積的物質當然主要是不易被光催化反應所觸動的無機類雜質,因該機制形成的積垢現象,在設備長時間運行之后很容易被觀察到;附著于所述石英管外壁的垢積層,雖然只是薄薄的一層,也足以對無極紫外燈的紫外光輻射造成顯著的阻擋,這將導致該微波光催化反應處理裝置的實際處理效力大幅減?。辉趯嶒炇页叨鹊氖褂眠^程中,上述積垢問題不易覺察,但是,在工業應用尺度上,該積垢問題毫無疑問將凸顯出來;因此,如何在不停機、不拆機的前提下,即時、有效地清除該石英管外壁上的垢積層,維持該微波光催化處理裝置的持續的高效率,是另一個值得關注的技術問題。
發明內容
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