[發明專利]輻射成像設備及方法

有效

• 申請號: 201210352549.8
• 申請日: 2012-09-20
• 公開（公告）號: CN103462628A
• 公開（公告）日: 2013-12-25
• 發明（設計）人: 張文宇;吳宏新;王亞杰;楊光明
• 申請（專利權）人: 北京朗視儀器有限公司
• 主分類號: A61B6/03
• 分類號: A61B6/03
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 王波波

1.一種輻射成像設備，包括：

射線源，發出射線；

探測器，與所述射線源相對設置；

承載機構，設置在射線源與探測器之間；

射線源控制器，控制所述射線源；

其中，所述輻射成像設備還包括測量裝置，測量被檢物相對于所述射線源和探測器的位置信息和該被檢物的輪廓信息；

所述射線源控制器基于所述輪廓信息控制所述射線源以調節出束劑量。

2.如權利要求1所述的輻射成像設備，所述測量裝置包括：

第一位置采集器，測量射線源到被檢物體表面的距離；

第二位置采集器，測量探測器到被檢物體表面的距離；

所述輻射成像裝置還包括數據處理中心，基于所述距離計算被檢物的輪廓信息。

3.如權利要求2所述的輻射成像設備，其中所述第一位置采集器和所述第二位置采集器的每一個包括激光測距儀、紅外測距儀、或光學相機。

4.一種輻射成像設備，包括：

射線源，發出射線；

探測器，與所述射線源相對設置；

承載機構，設置在射線源與探測器之間；

射線源控制器，控制所述射線源；

所述輻射成像設備還包括測量裝置，測量被檢物相對于所述射線源和探測器的位置信息和該被檢物的輪廓信息；

準直器，設置在所述射線源的射線出口，對射線源發出的射線進行準直；

準直控制器，基于所述位置信息和該被檢物的輪廓信息控制所述準直器來調節所述射線的照射范圍。

5.如權利要求4所述的輻射成像設備，其中所述準直器包括多個準直塊，所述準直控制器根據所述位置信息和被檢物的輪廓信息控制所述多個準直塊使得出束口的形狀與被檢物體的感興趣區的形狀適配。

6.如權利要求4所述的輻射成像設備，所述測量裝置包括：

第一位置采集器，測量射線源到被檢物體表面的距離；

第二位置采集器，測量探測器到被檢物體表面的距離；

所述輻射成像裝置還包括數據處理中心，基于所述距離計算被檢物的輪廓信息。

7.如權利要求6所述的輻射成像設備，其中所述第一位置采集器和所述第二位置采集器的每一個包括激光測距儀、紅外測距儀、或光學相機。

8.一種輻射成像設備，包括：

射線源，發出射線；

探測器，與所述射線源相對設置；

承載機構，設置在射線源與探測器之間；

射線源控制器，控制所述射線源；

其中，所述輻射成像設備還包括測量裝置，測量被檢物相對于所述射線源和探測器的位置信息和該被檢物的輪廓信息；

輻射成像裝置還包括數據處理中心，基于所述距離計算被檢物的輪廓信息，基于所述位置信息和該被檢物的輪廓信息以及所述探測裝置所產生的投影數據來重建所述被檢物體的圖像。

9.如權利要求8所述的輻射成像設備，所述數據處理中心給予所述位置信息確定穿過被檢物體的射線的長度，并基于所述射線的長度重建所述被檢物體的圖像。

10.如權利要求8所述的輻射成像設備，還包括探測器控制器，基于所述位置信息和輪廓信息控制所述探測器的位置。

11.如權利要求8所述的輻射成像設備，所述測量裝置包括：

第一位置采集器，測量射線源到被檢物體表面的距離；

第二位置采集器，測量探測器到被檢物體表面的距離；

所述輻射成像裝置還包括數據處理中心，基于所述距離計算被檢物的輪廓信息。

12.如權利要求11所述的輻射成像設備，其中所述第一位置采集器和所述第二位置采集器的每一個包括激光測距儀、紅外測距儀、或光學相機。

13.一種控制輻射成像設備的方法，所述輻射成像設備包括相對放置的射線源和探測器，以及控制所述射線源的射線源控制器，所述方法包括：

測量被檢物相對于所述射線源和探測器的位置信息和該被檢物的輪廓信息；以及

基于所述輪廓信息控制所述射線源以調節出束劑量。

14.如權利要求13所述的方法，所述測量步驟包括：

測量射線源到被檢物體表面的距離；

測量探測器到被檢物體表面的距離；

基于所述距離計算被檢物的輪廓信息。