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[發明專利]一種多晶硅鑄錠用陶瓷坩堝免燒結涂層制備方法無效

專利信息
申請號: 201210350069.8 申請日: 2012-09-20
公開(公告)號: CN102850086A 公開(公告)日: 2013-01-02
發明(設計)人: 劉曉兵;吳紅霞;賈嬌嬌;金浩 申請(專利權)人: 光為綠色新能源股份有限公司
主分類號: C04B41/85 分類號: C04B41/85
代理公司: 保定市燕趙恒通知識產權代理事務所 13121 代理人: 周獻濟
地址: 074000 *** 國省代碼: 河北;13
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摘要:
搜索關鍵詞: 一種 多晶 鑄錠 陶瓷 坩堝 燒結 涂層 制備 方法
【說明書】:

技術領域

發明屬于太陽能多晶硅鑄錠領域,涉及一種多晶硅鑄錠用陶瓷坩堝免燒結涂層制備方法。

背景技術

根據2011年8月份Solarbuzz報告,55%的終端用戶裝機總容量是基于多晶硅片,說明多晶硅太陽能電池已經占據了光伏市場大半壁江山。與單晶硅片相比,盡管多晶硅片的電池轉換效率比較低,但其生產成本遠低于單晶硅片,考慮到成本和效益,目前大部分終端用戶均會選擇成本較低的多晶硅太陽能電池。

多晶硅片制造過程中很重要的一個環節就是多晶硅鑄錠。多晶硅鑄錠過程是將外觀不規則的多晶硅原料盛放于坩堝中,在多晶硅鑄錠爐中實現加熱、熔化、長晶、退火、冷卻等步驟,最終生長成形狀規則、晶粒較大的多晶硅錠。

多晶硅鑄錠使用的坩堝是高純二氧化硅陶瓷坩堝,而多晶硅鑄錠是在高溫下完成的,為防止在高溫下二氧化硅與多晶硅料發生反應,引起多晶硅錠脫模困難、硅錠裂錠、氧含量增加等現象,人們一般在坩堝內部涂覆一層氮化硅涂層。氮化硅在高溫下(1900℃)性能穩定、不與二氧化硅、硅發生反應,從而有效隔離了熔融硅與陶瓷坩堝,提高多晶硅錠的脫模能力,防止二氧化硅中的氧通過反應、擴散到多晶硅錠中,避免坩堝對硅錠的污染。

當前,多晶硅鑄錠用坩堝涂層一般采用噴涂方式制備,即氮化硅與水按照一定的比例配置成懸浮液,用噴槍將懸浮液噴涂到方形陶瓷坩堝內壁上,然后將噴涂好的坩堝放入烘箱中進行長時間高溫燒結。這種方法制備簡單,成本低。因此,被廣泛采用。該工藝過程中長時間高溫燒結是一個必須的過程,未經高溫燒結的涂層,涂層容易脫落、起泡,從而使多晶硅錠出現粘堝、開裂現象。長時間高溫燒結,一方面需要增加高溫燒結設備;另一方面需要耗費大量的電能;再一方面還需要增加人工操作過程。從而使多晶硅鑄錠廠家的鑄錠成本大大增加。同時,即使經過燒結的涂層粘附力也較差,容易脫落、起泡,較容易造成硅錠粘堝、開裂現象。?

發明內容

本發明的目的就是解決現有技術中存在的上述問題,提供一種多晶硅鑄錠用陶瓷坩堝免燒結涂層制備方法,使用該方法形成的氮化硅涂層與坩堝內壁粘附力強,脫落、起泡的幾率低,提高了多晶硅鑄錠的成品率,降低了鑄錠成本,提高了生產效率。

為實現上述目的,本發明的技術解決方案是:一種多晶硅鑄錠用陶瓷坩堝免燒結涂層制備方法,其包括以下步驟:

(1)懸濁液的配制:

懸濁液是由以下材料制成的,按照重量百分比計算,15%-25%的氮化硅,70%-80%的去離子水和1%-5%的聚乙烯吡咯烷酮PVP;將所述量的去離子水倒入攪拌器內,再將所述量的氮化硅緩緩加入去離子水中,快速攪拌15分鐘后再慢速攪拌15分鐘,然后將所述量的聚乙烯吡咯烷酮PVP置于攪拌器內進行攪拌,攪拌15-20分鐘使懸濁液均勻備用;

(2)涂層的制備:

將坩堝放在旋轉加熱器上進行加熱,坩堝干燥后用上述所述懸濁液噴涂,噴涂時,坩堝溫度控制在50~90℃,噴槍與坩堝內壁的噴涂距離控制在25-30cm之間,噴涂過程中隨時用點溫計測量坩堝內涂層狀態;將噴涂完成后的坩堝常溫下晾干或者在旋轉加熱器上在70—100℃的溫度下保溫0.5-2小時。

有益效果???

由于本發明的涂層增添了聚乙烯吡咯烷酮PVP粘結劑,從而增強了氮化硅涂層的附著力,噴涂過程中粉塵明顯減少,增加了氮化硅的有效利用率,實現了坩堝涂層的免燒結,從而大大降低了生產及設備成本;涂層脫落、起泡的幾率明顯降低,提高了多晶硅鑄錠的成品率,提高了生產效率。從我們所做的多次實驗表明,使用本發明制備的坩堝涂層在制備過程中不易脫落、爆皮、起泡,卸錠時方便坩堝的脫落。

本發明涂層的制備原材料和制備方法是根據涂層性能要求,經過查閱大量文獻和做了大量的對比試驗得出的。

在選擇添加材料上,必須遵守兩個原則:1、與氮化硅溶液混合后,能夠提高氮化硅噴涂涂層的粘附能力;2、能夠在高溫分解,從而不影響硅錠的純度。

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