[發(fā)明專利]涂敷裝置及涂敷方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210348068.X | 申請日: | 2012-09-18 |
| 公開(公告)號: | CN103008179A | 公開(公告)日: | 2013-04-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 能條和彥;大島篤;城正樹;坂本孝博 | 申請(專利權(quán))人: | 富士膠片株式會社 |
| 主分類號: | B05C11/02 | 分類號: | B05C11/02;B05D3/12 |
| 代理公司: | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人: | 蔣亭 |
| 地址: | 日本國*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 裝置 方法 | ||
1.一種涂敷裝置,其具備吸嘴,在行進(jìn)的帶狀的片材上涂敷涂敷液之際,該吸嘴對形成在涂敷寬度方向兩端部且比目標(biāo)涂敷膜厚更厚的厚涂部進(jìn)行吸引,其中,
所述吸嘴的涂敷寬度方向上的吸引面寬度Do及吸引口寬度Di在所述厚涂部的涂敷寬度方向上的寬度為W及高度為H、所述片材與所述吸引面之間的間隙為L時,滿足下述的式1及式2,
W≤Do…(式1)
W*H/L≤Di<Do-1mm…(式2)。
2.如權(quán)利要求1所述的涂敷裝置,其中,
所述吸嘴具有將吸引壓力設(shè)定在30~180kPa的范圍內(nèi)的吸引壓力調(diào)整機(jī)構(gòu)。
3.如權(quán)利要求1或2所述的涂敷裝置,其中,
所述吸引面相對于所述厚涂部具有凹狀的吸引面。
4.如權(quán)利要求1或2所述的涂敷裝置,其中,
具有:
所述吸引面寬度Do不同的多個吸嘴;
將所述吸嘴支承為沿著鉛垂方向滑動自如的主體;
使所述吸嘴沿著鉛垂方向滑動移動的移動機(jī)構(gòu);
相對于所述主體拆裝所述吸嘴的拆裝機(jī)構(gòu)。
5.一種涂敷方法,其具備吸引工序,該吸引工序中,在行進(jìn)的帶狀的片材上涂敷涂敷液之際,通過吸嘴對形成在涂敷寬度方向兩端部且比目標(biāo)涂敷膜厚更厚的厚涂部進(jìn)行吸引,其中,
所述吸引工序包括:
測定所述厚涂部的高度H和所述涂敷寬度方向上的厚涂寬度W的厚涂部測定工序;
根據(jù)所述測定出的厚涂寬度W,將所述吸嘴的吸引面的所述涂敷寬度方向上的吸引面寬度Do設(shè)定為W≤Do的吸引面寬度設(shè)定工序;
根據(jù)所述測定出的厚涂部的高度H和從所述片材到所述吸引面的間隙L,將所述吸嘴的所述涂敷寬度方向上的吸引口寬度Di設(shè)定為滿足W*H/L≤Di<Do-1mm的吸引口寬度設(shè)定工序。
6.如權(quán)利要求5所述的涂敷方法,其中,
在所述吸引面寬度設(shè)定工序中,準(zhǔn)備滿足所述Di<Do-1mm且吸引面寬度Do不同的多個吸嘴,并根據(jù)所述厚涂部寬度的測定結(jié)果來選擇滿足所述W≤Do的吸嘴,
在所述吸引口寬度設(shè)定工序中,通過對所述選擇出的吸嘴的所述間隙L進(jìn)行調(diào)整來滿足所述W*H/L≤Di。
7.如權(quán)利要求5或6所述的涂敷方法,其中,
將所述吸嘴的吸引壓力設(shè)定在30~180kPa的范圍內(nèi)。
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