[發明專利]輻射源

有效

• 申請號: 201210347809.2
• 申請日: 2012-09-18
• 公開（公告）號: CN103019038A
• 公開（公告）日: 2013-04-03
• 發明（設計）人: H·G·希梅爾;J·F·迪克斯曼;D·蘭貝特斯基
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 張啟程

1.一種輻射源，包括：

貯存器，配置成保持一體積的燃料；

噴嘴，與貯存器流體連接并配置成沿著朝向等離子體形成位置的軌跡引導燃料流；

激光器，配置成將激光輻射引導到在等離子體形成位置處的所述流上，以在使用中產生用于產生輻射的等離子體；和

正透鏡布置，配置成朝向等離子體形成位置將燃料流的軌跡的至少潛在的展度范圍聚焦，所述透鏡包括電場生成元件和/或磁場生成元件。

2.根據權利要求1所述的輻射源，其中透鏡布置配置成確保噴嘴的位置或方向變化被在等離子體形成位置的預期位置處或相對于等離子體形成位置的預期位置以小于或等于1的倍數放大。

3.根據權利要求1或2所述的輻射源，其中所述透鏡布置還配置成用作下述配置中的一個或更多個、或至少形成下述配置中的一個或更多個的一部分：

用于從噴嘴抽取燃料的抽取配置；

用于將構成燃料流的燃料加速的加速配置；

用于將構成燃料流的燃料減速的減速配置；和

用于給構成或將構成燃料流的燃料充電的充電配置。

4.根據權利要求3所述的輻射源，其中所述透鏡布置能夠在所述一個或更多的配置之間切換。

5.根據權利要求4所述的輻射源，其中所述透鏡布置能夠通過在下述部件之間施加適合的電勢差來進行切換：

透鏡布置的一個或更多的部件；

透鏡布置和噴嘴的一個或更多的部件；和/或

透鏡布置和充電布置中的一個或更多的部件。

6.根據權利要求4或5所述的輻射源，其中控制器布置成在燃料流的一部分從噴嘴行至等離子體形成位置時執行在所述配置中的一個或更多個配置之間的切換。

7.根據前述權利要求中任一項所述的輻射源，其中所述透鏡布置的位置和/或方向是能夠控制的，用于控制聚焦點的位置。

8.根據前述權利要求中任一項所述的輻射源，其中一個或更多的另外的正透鏡布置被沿著軌跡的潛在展度范圍提供和設置。

9.根據前述權利要求中任一項所述的輻射源，其中所述透鏡布置是靜電透鏡布置、靜磁透鏡布置和/或單透鏡。

10.根據前述權利要求中任一項所述的輻射源，還包括用于給構成燃料流或將構成燃料流的燃料充電的充電配置。

11.根據前述權利要求中任一項所述的輻射源，其中所述燃料流包括燃料液滴的流。

12.根據前述權利要求中任一項所述的輻射源，其中所述燃料是熔融的金屬。

13.一種流體流生成器，包括：

貯存器，配置成保持一體積的流體；

噴嘴，與貯存器流體連接并配置成沿著朝向目標位置的軌跡引導流體流；和

正透鏡布置，配置成朝向目標位置將流體流的軌跡的至少潛在的展度范圍聚焦，所述透鏡包括電場生成元件和/或磁場生成元件。

14.一種光刻設備，包括：

照射系統，用于提供輻射束；

圖案形成裝置，用于在輻射束的橫截面中將圖案賦予輻射束；

襯底保持裝置，用于保持襯底；

投影系統，用于將圖案化的輻射束投影到襯底的目標部分上，和

其中所述光刻設備還包括根據前述權利要求中任一項所述的輻射源或流體流生成器，或與根據前述權利要求中任一項所述的輻射源或流體流生成器相連接。

15.一種使燃料流生成器的帶電的燃料流的軌跡的潛在展度范圍會聚的方法，所述方法包括步驟：

使用電場和/或磁場建立正透鏡；和使帶電的燃料流穿過正透鏡。