[發明專利]再生模板的方法和再生設備有效
| 申請號： | 201210347807.3 | 申請日： | 2012-09-18 |
| 公開（公告）號： | CN103092010A | 公開（公告）日： | 2013-05-08 |
| 發明（設計）人： | 小林正子;平林英明 | 申請（專利權）人： | 株式會社東芝 |
| 主分類號： | G03F7/42 | 分類號： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 永新專利商標代理有限公司 72002 | 代理人： | 張海濤;于輝 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 再生 模板 方法 設備 | ||
【權利要求書】：
1.一種再生模板的再生方法，該模板包含：
具有凹凸圖案的轉移表面，和
包含無機官能團和有機官能團的脫模層，這兩種官能團都鍵合到該轉移表面上，
該方法包含：
通過對脫模層中所包含的有機官能團進行氧化和分解來除去有機官能團；
除去無機官能團；和
通過將硅烷偶聯劑與轉移表面偶聯來形成脫模層。
2.權利要求1的方法，其中無機官能團的除去是按如下進行的：用含有選自氨、膽堿、氫氧化鈉和氟化氫中的至少一種的化學溶液進行處理。
3.權利要求1的方法，其中在無機官能團的除去中，進行0.15n?m或者更大的蝕刻。
4.權利要求1的方法，其中該氧化和分解是通過用紫外線照射、等離子體照射或者臭氧處理來進行的。
5.權利要求1的方法，其中該脫模層包含含有硅烷偶聯劑的硅原子的無機官能團，該硅原子是經由氧原子與轉移表面共價鍵合的，并且有機官能團與該硅原子相鄰。
6.權利要求1的方法，其中該無機官能團包含烷基或者氟基團。
7.一種用于再生模板的再生設備，該模板包含：
具有凹凸圖案的轉移表面，和
包含無機官能團和有機官能團的脫模層，這兩種官能團都鍵合到該轉移表面上，
該設備包含：
第一加工區，用于通過氧化和分解來除去脫模層的有機官能團；
第二加工區，用于除去脫模層的無機官能團；和
第三加工區，用于通過將硅烷偶聯劑與轉移表面偶聯來形成脫模層。
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